16nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响研究

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光学学报

ESCI,EI,SCOPUS,CJCR,CSCD,北图

2019年第39卷第01期1页

16nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响研究

李艳秋 ¹刘岩 ²刘丽辉 ³

录用时间：2018-07-10

论文栏目

光学设计与制造

作者单位

¹ 北京理工大学光电学院

² 北京航天计量测试技术研究所

³ 北京理工大学光电工程系

论文摘要

16nm极紫外光刻（EUVL）物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给系统热管理提供可靠的技术依据，本文对数值孔径为0.33，满足16nm技术节点的典型EUVL物镜进行了热变形仿真研究。用有限元软件ANSYS仿真曝光过程中反射镜瞬态温度和变形分布。以Zernike多项式为接口拟合变形面，分析热变形对成像性能的影响。研究表明，物镜的最高温升和最大变形为3.9℃和10.2nm，物镜高温态的热变形引起最大波像差RMS和畸变为0.1λ和56nm，超出了合理范围。其中，M3和M4反射镜热变形累加引起的波像差和畸变占比88%和99%，对成像性能的影响起主导作用，需要重点温控。

热变形极紫外光刻有限元分析反射系统成像性能

引用本文

李艳秋, 刘岩, 刘丽辉. 16nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响研究[J]. 光学学报, 2019, 39(01): 1.

DOI：10.3788/aos201939.01光学设计与制造01

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