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Ptychography相位成像及其关键技术进展

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摘要

Ptychography是近些年快速发展的一种新型相位恢复技术,通过对待测样品以小于照明光直径的步长进行扫描后,利用迭代计算可以重建出照明光和样品复振幅分布,是一种理论分辨率为衍射极限的非透镜相位成像技术。虽然其提出初期受限于基本假定条件,但近些年随着相关研究的跟进,对Ptychography算法特性理解逐渐深入,算法也日趋成熟,在可见光、X射线和电子束等领域已广泛应用于相位成像、波前诊断和光学计量,因此针对影响重建过程和精度的关键因素,如模态多样化、扫描误差、光斑误差、距离误差、样品厚度不可忽略等,进行了总结,并讨论了针对上述问题的关键技术进展。

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补充资料

DOI:10.3788/aos202040.0111010

作者单位:

    中国科学院上海光学精密机械研究所
    中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室
    中国科学院上海光学精密机械研究所
    中国科学院上海应用物理研究所
    中国科学院上海光学精密机械研究所

引用该论文

潘兴臣,刘诚,陶华,刘海岗,朱健强. Ptychography相位成像及其关键技术进展[J].光学学报,2020,40(01):0111010.