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基于衍射谱分析的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法 [Early Posting]

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摘要

提出了一种全芯片光源掩模联合优化的关键图形筛选方法。本方法以图形的主要频率来表征图形的特征,利用主要频率的位置和轮廓信息描述主要频率在频谱面的分布特征。设计了相应的主要频率提取方法、主要频率覆盖规则、主要频率聚类方法以及关键图形筛选方法,实现了全芯片光源掩模联合优化的关键图形筛选。采用荷兰ASML公司的商用计算光刻软件Tachyon进行了仿真验证,与ASML公司同类技术的比较结果表明本方法获得的工艺窗口优于ASML Tachyon方法,验证了本方法的有效性。

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补充资料

DOI:10.3788/aos202040.2122001

作者单位:

    中国科学院上海光学精密机械研究所
    中国科学院上海光学精密机械研究所
    中国科学院上海光学精密机械研究所
    中国科学院微电子研究所
    中国科学院微电子研究所
    中国科学院微电子研究所
    中国科学院微电子研究所
    东方晶源微电子科技有限公司

引用该论文

廖陆峰,李思坤,王向朝,张利斌,张双,高澎铮,韦亚一,施伟杰. 基于衍射谱分析的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法[J].光学学报,2020,40(21):2122001.