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基于激光干涉光刻制备976nmDFB激光器光栅

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摘要

分布反馈(DFB)半导体激光器具有优良的稳定性和单模性,广泛应用于激光器泵浦和光通信等领域。光栅作为DFB激光器的关键部件,对器件的性能有重要的影响。本文针对976nm设计制备了DFB激光器的光栅。首先基于耦合模理论,优化设计了光栅的结构参数,然后采用激光干涉光刻和反应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术制备光栅。实验通过引入表面镀膜SiO2的方法提高了光栅图形由光刻胶向衬底转移的保真度,显著地改善了光栅的图形质量,并探究了曝光时间、ICP刻蚀时间对光栅表面形貌的影响。对比测试结果表明,所制备的光栅条纹分布均匀,有较好的表面形貌,满足预期设计目标。

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DOI:10.3788/lop54.120501

作者单位:

    长春理工大学

引用该论文

白云峰,范杰,邹永刚,王海珠,海一娜,田. 基于激光干涉光刻制备976nmDFB激光器光栅[J].激光与光电子学进展,2017,54(12):120501.