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TiO2薄膜表面散射影响因素研究

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摘要

为了探究单层TiO2薄膜散射损耗的影响因素,利用电子束热蒸发技术分别以不同沉积速率和不同沉积角度的沉积工艺在K9玻璃上镀制光学厚度为的TiO2薄膜,并利用horos散射仪分别测量镀制前后薄膜表面粗糙度和双向反射分布函数。实验结果表明:单层TiO2薄膜表面粗糙度随着沉积速率的增大而减小,最终将趋于0.88nm,且实验值都小于基底表面粗糙度1.5nm,表明TiO2薄膜可以降低基底表面粗糙度,具有平滑基底的作用;随着入射沉积角的增大,薄膜的表面粗糙度也会逐渐增加,当角度为0°和20°时,薄膜表面粗糙度小于基底表面粗糙度;当角度为40°和60°时,薄膜表面粗糙度将大于基底表面粗糙度;薄膜表面散射量随表面粗糙度的降低而降低,且降低幅度也随表面粗糙度一致,两者存在正相关关系;当薄膜表面粗糙度小于基底粗糙度时,薄膜表面散射将低于裸基底的表面散射,实现减散射的效果。改变沉积速率和入射沉积角将直接影响薄膜表面粗糙度,而薄膜表面粗糙度又是影响薄膜表面散射的重要因素。

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补充资料

DOI:10.3788/lop57.033101

作者单位:

    西安工业大学
    西安工业大学光电工程学院
    西安工业大学光电工程学院
    西安工业大学

引用该论文

刘金泽,潘永强,张达,樊彦. TiO2薄膜表面散射影响因素研究[J].激光与光电子学进展,2020,57(03):033101.