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磁流变抛光流场瞬变过程响应时间研究

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摘要

强激光系统对光学元件的极端制造需求对磁流变抛光工艺过程的确定性提出了极为严苛的要求。磁流变抛光流场在多种工况下均会产生瞬变过程。目前,这一瞬变过程的研究较为少见。本文研究了磁流变抛光瞬变过程多相颗粒流模型;获得了瞬变过程在宏观、介观、微观三个层次的力学关联;进而建立了基于三向在位力学信号的瞬变过程表征方法。在位、同步、动态地测定了磁流变抛光的三向力学信号。解决了毫米尺度空间下磁流变抛光液固界面在位测量问题。用屈服强度为220kPa、宾汉粘度为0.07Pas的高去除率抛光液对?50mm的BK7超精密平面元件进行磁流变抛光实验,首次测定了磁流变抛光流场瞬变响应时间为700毫秒。

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补充资料

DOI:10.3788/lop57.032201

作者单位:

    遵义师范学院
    遵义师范学院
    遵义师范学院
    遵义师范学院
    中国工程物理研究院
    中国工程物理研究院

引用该论文

杨航,宋书飘,张帅,甘欢,黄文,何建国. 磁流变抛光流场瞬变过程响应时间研究[J].激光与光电子学进展,2020,57(03):032201.