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硒化钨在保偏调Q光纤激光器中的稳定性研究

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摘要

本文将二维材料硒化钨与聚合物PVA混合制成饱和吸收体薄膜,在掺铒保偏光纤激光器中,实现了稳定的调Q运转。全保偏的腔体能够最大程度减少环境对激光腔的双折射的扰动,在此基础上,我们研究了硒化钨-PVA饱和吸收体薄膜在调Q激光运转中的材料稳定性。研究发现,当材料中的热量累计到一定阈值后,聚合物基底材料首先进入熔融状态,随后热量在薄膜中进一步累计,导致硒化钨材料受热损害,表现为饱和吸收体薄膜损耗的急剧增加。此项工作有助于研究二维材料作为饱和吸收体在光纤脉冲激光器中工作时的长期稳定性。

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DOI:10.3788/cjl201744.0703016

作者单位:

    上海交通大学电子信息与电气工程学院
    上海交通大学电子信息与电气工程学院
    上海交通大学电子信息与电气工程学院
    上海交通大学
    上海交通大学 光纤技术研究所 教学二楼101(实验室)浩然大厦1709(办公室)

引用该论文

郭超世,陈博华,王昊,吴侃,陈建平. 硒化钨在保偏调Q光纤激光器中的稳定性研究[J].中国激光,2017,44(7):0703016.