摘要

线性渐变透过率薄膜是光刻系统中光可变衰减器的关键元件。本文基于采用电子束蒸发实现了近线性248nm渐变透过率光学薄膜的设计与制备。通过对敏感度的计算和优化，基于减反膜基础膜系实现了低敏感非规整膜系的设计。采用紫外光控—晶控组合的高精度膜厚监控，控制精度达到0.3%，误差容忍度达到0.5%。采用JGS1熔融石英基片、Al2O3和SiO2膜料制备的透射膜，在248nm S偏振光照射下，在入射角21°-35°范围内实现了透过率从10%到97.8％的线形调控，满足了光可变衰减器的性能需求。

补充资料

DOI：10.3788/cjl202047.0503001

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引用该论文

朱瑞,陶春先,余振,张伟丽,易葵. 248nm透过率线性渐变光学薄膜的设计与制备[J].中国激光,2020,47(05):0503001.