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248nm透过率线性渐变光学薄膜的设计与制备 [Early Posting]

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摘要

线性渐变透过率薄膜是光刻系统中光可变衰减器的关键元件。本文基于采用电子束蒸发实现了近线性248nm渐变透过率光学薄膜的设计与制备。通过对敏感度的计算和优化,基于减反膜基础膜系实现了低敏感非规整膜系的设计。采用紫外光控—晶控组合的高精度膜厚监控,控制精度达到0.3%,误差容忍度达到0.5%。采用JGS1熔融石英基片、Al2O3和SiO2膜料制备的透射膜,在248nm S偏振光照射下,在入射角21°-35°范围内实现了透过率从10%到97.8%的线形调控,满足了光可变衰减器的性能需求。

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补充资料

DOI:10.3788/cjl202047.0503001

作者单位:

    上海理工大学
    上海理工大学 光电信息与计算机工程学院
    上海光学精密机械研究所
    本所 薄膜中心
    上海光机所

引用该论文

朱瑞,陶春先,余振,张伟丽,易葵. 248nm透过率线性渐变光学薄膜的设计与制备[J].中国激光,2020,47(05):0503001.