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阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响 [Early Posting]

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摘要

为了改善氧化铈抛光液的性能,在不破坏钕玻璃表面质量的前提下提高钕玻璃的抛光效率,选择在氧化铈抛光液中加入阴离子表面活性剂雷米邦a。本文研究了改性后的抛光液对氧化铈抛光液中粒子粒径、钕玻璃的材料去除率和抛光后钕玻璃表面质量的影响,研究了加入不同质量分数雷米邦a的抛光液在不同pH值下对钕玻璃抛光速率和抛光质量的影响。结果表明:雷米邦a能够抑制抛光液中纳米粒子的团聚,降低氧化铈的中位粒径,提高抛光效率。当二氧化铈质量分数为3%,pH为6.5、雷米邦a用量为0.30%wt时材料去除率达到最大值169nm/min;pH为7、雷米邦a用量为0.20%wt时钕玻璃的表面粗糙度达到最小值0.9nm;

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补充资料

DOI:10.3788/cjl202047.0903002

作者单位:

    上海光机所
    中国科学院上海光学精密机械研究所
    上海光机所
    本所

引用该论文

刘伯勋,焦翔,谭小红,朱健强. 阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响[J].中国激光,2020,47(09):0903002.