激光与光电子学进展, 2018, 55 (3): 033101, 网络出版: 2018-09-10
基于原子层沉积的大曲率基底表面薄膜均匀性研究 下载: 1217次
Study of Film Uniformity on Large-Curvature Substrate Surface Based on Atomic Layer Deposition
基本信息
DOI: | 10.3788/LOP55.033101 |
中图分类号: | O484 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | 国家自然科学基金(61405183,61575182)、 |
收稿日期: | 2017-09-12 |
修改稿日期: | 2017-09-30 |
网络出版日期: | 2018-09-10 |
通讯作者: | 李旸晖 (lyh@cjlu.edu.cn) |
备注: | -- |
来邻, 李旸晖, 周辉, 夏浩盛, 刘小煜, 夏成樑, 王乐. 基于原子层沉积的大曲率基底表面薄膜均匀性研究[J]. 激光与光电子学进展, 2018, 55(3): 033101. Lin Lai, Yanghui Li, Hui Zhou, Haosheng Xia, Xiaoyu Liu, Chengliang Xia, Le Wang. Study of Film Uniformity on Large-Curvature Substrate Surface Based on Atomic Layer Deposition[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2018, 55(3): 033101.