光电技术应用, 2015, 30 (4): 8, 网络出版: 2015-09-08   

激光辐照下硅材料温度分布研究

Research on Temperature Distribution of Silicon Material Irradiated by Laser
作者单位
1 中国电子科技集团公司第四十五研究所, 北京 100176
2 光电信息控制和安全技术重点实验室, 河北 三河 065201
引用该论文

韩微微, 赵万利. 激光辐照下硅材料温度分布研究[J]. 光电技术应用, 2015, 30(4): 8.

HAN Wei-wei, ZHAO Wan-li. Research on Temperature Distribution of Silicon Material Irradiated by Laser[J]. Electro-Optic Technology Application, 2015, 30(4): 8.

参考文献

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韩微微, 赵万利. 激光辐照下硅材料温度分布研究[J]. 光电技术应用, 2015, 30(4): 8. HAN Wei-wei, ZHAO Wan-li. Research on Temperature Distribution of Silicon Material Irradiated by Laser[J]. Electro-Optic Technology Application, 2015, 30(4): 8.

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