激光与光电子学进展, 2000, 37 (3): 33, 网络出版: 2006-08-08
用单片器件水解制氢效率达12%
引用该论文
从征. 用单片器件水解制氢效率达12%[J]. 激光与光电子学进展, 2000, 37(3): 33.
从征. 用单片器件水解制氢效率达12%[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2000, 37(3): 33.
参考文献
从征. 用单片器件水解制氢效率达12%[J]. 激光与光电子学进展, 2000, 37(3): 33. 从征. [J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2000, 37(3): 33.