激光与光电子学进展, 1983, 20 (2): 43, 网络出版: 2013-07-26
用电子束全息照相术以5毫微米的分辨率观测磁场
摘要
日本日立制作所所属中央研究所发现了利用电子束全息照相术，以5毫微米的分辨率观测磁场的方法。用于观测的试样是厚度为50毫微米的钴薄膜。在此试样上，用间隙为0.2微米的磁头以0.15微米的间隔进行磁记录。钴薄膜是在玻璃基板上以对基板表面呈倾斜的方向进行蒸镀而作成。
Abstract
彭竹山. 用电子束全息照相术以5毫微米的分辨率观测磁场[J]. 激光与光电子学进展, 1983, 20(2): 43. 彭竹山. [J]. Laser & Optoelectronics Progress, 1983, 20(2): 43.
PDF全文
