光学 精密工程, 2020, 28 (2): 372, 网络出版: 2020-05-27
研磨压力对固结聚集体磨料垫自修正影响
Effect of lapping load on self-conditioning performance of fixed agglomerated abrasive pad
基本信息
DOI: | 10.3788/ope.20202802.0372 |
中图分类号: | TG73;TG74 |
栏目: | 微纳技术与精密机械 |
项目基金: | 国家自然科学基金资助项目(No.51675276) |
收稿日期: | 2019-08-08 |
修改稿日期: | 2019-10-08 |
网络出版日期: | 2020-05-27 |
通讯作者: | 牛凤丽 (niufengli123@163.com) |
备注: | -- |
牛凤丽, 朱永伟, 沈功明, 王子琨, 王科荣. 研磨压力对固结聚集体磨料垫自修正影响[J]. 光学 精密工程, 2020, 28(2): 372. NIU Feng-li, ZHU Yong-wei, SHEN Gong-ming, WANG Zi-kun, WANG Ke-rong. Effect of lapping load on self-conditioning performance of fixed agglomerated abrasive pad[J]. Optics and Precision Engineering, 2020, 28(2): 372.