强激光与粒子束, 2013, 25 (12): 3197, 网络出版: 2013-12-16
神光Ⅲ中退偏现象对系统隔离比的影响
Research on isolation ratio limit induced by depolarization in Shenguang-Ⅲ laser facility
基本信息
DOI: | 10.3788/hplpb20132512.3197 |
中图分类号: | TN248.1 |
栏目: | 驱动器 |
项目基金: | 国家高技术发展计划项目 |
收稿日期: | 2013-09-11 |
修改稿日期: | 2013-09-30 |
网络出版日期: | 2013-12-16 |
通讯作者: | 温静 (sevenheero@pku.edu.cn) |
备注: | -- |
温静, 张鑫, 周维, 唐菱, 王渊承, 邓武, 胡东霞. 神光Ⅲ中退偏现象对系统隔离比的影响[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25(12): 3197. Wen Jing, Zhang Xin, Zhou Wei, Tang Ling, Wang Yuancheng, Deng Wu, Hu Dongxia. Research on isolation ratio limit induced by depolarization in Shenguang-Ⅲ laser facility[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25(12): 3197.