光学学报, 2006, 26 (10): 1585, 网络出版: 2006-10-31
常压化学气相沉积技术生长ZnO∶H薄膜的光学性质
Optical Properties of ZnO∶H Films Grown by Atmospheric Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition (APMOCVD)
引用该论文
李璠, 王立, 戴江南, 蒲勇, 方文卿, 江风益. 常压化学气相沉积技术生长ZnO∶H薄膜的光学性质[J]. 光学学报, 2006, 26(10): 1585.
李璠, 王立, 戴江南, 蒲勇, 方文卿, 江风益. Optical Properties of ZnO∶H Films Grown by Atmospheric Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition (APMOCVD)[J]. Acta Optica Sinica, 2006, 26(10): 1585.
李璠, 王立, 戴江南, 蒲勇, 方文卿, 江风益. 常压化学气相沉积技术生长ZnO∶H薄膜的光学性质[J]. 光学学报, 2006, 26(10): 1585. 李璠, 王立, 戴江南, 蒲勇, 方文卿, 江风益. Optical Properties of ZnO∶H Films Grown by Atmospheric Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition (APMOCVD)[J]. Acta Optica Sinica, 2006, 26(10): 1585.
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