新型减反屏蔽膜系的模拟设计
胡俊涛, 吕国强, 陆红波, 胡跃辉, 冯奇斌, 高伟清. 新型减反屏蔽膜系的模拟设计[J]. 现代显示, 2009, 20(3): 43.
HU Jun-tao, LV Guo-qiang, LU Hong bo, HU Yue-hui, FENG Qi-bin, GAO Wei qing. Design of New Anti-reflection and Electro-magnetic Interference films[J]. ADVANCED DISPLAY, 2009, 20(3): 43.
[1] Kim D.H.,Park M．R.,Lee G.H.,Prepar-ation of high quality ITO films on a plastic substracte using RF magnetron sputtering [J]．Surface＆Coatings Technology，2006，201 (3-4)：927 ～931．
[2] Qiao Z,Latz R,Mergel D.Thickness dependence of In2O3 ：Sn film growth．Thin Solid Films，2004，466(122)：250～258．
[3] Born M.,Wolf E.,Principles of Optics [M]．Sixth edition。U．K.：LPergamon Press Ltd.,1980．67．
[4] 周引穗，王俊，杨晓东等．透光导电ITO膜的制备及光电特性的研究[J]．光子学报，2002，31(9)：1077-1080．
[5] 辛荣生，林钰．ITO薄膜的制备及其光电特性研究[J]．电子元件与材料，2005，24(9)：39～41．
[6] 李芳，林永昌．减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制[J]．光学技术，2001，27(5)：406-407．
[7] 吴玉韬，翁小龙，邓龙江．低温沉积lTO膜的透光率及电磁屏蔽特性的研究[J]．真空科学与技术学报， 2006， 26(5)：372～376．
[8] 吴良斌，高玉亮，等．现代电子系统的电磁兼容性设计[M]．国防工业出版社，2004．
[9] 谢建平．近代光学基础[M]．高等教育出版社,2006．
胡俊涛, 吕国强, 陆红波, 胡跃辉, 冯奇斌, 高伟清. 新型减反屏蔽膜系的模拟设计[J]. 现代显示, 2009, 20(3): 43. HU Jun-tao, LV Guo-qiang, LU Hong bo, HU Yue-hui, FENG Qi-bin, GAO Wei qing. Design of New Anti-reflection and Electro-magnetic Interference films[J]. ADVANCED DISPLAY, 2009, 20(3): 43.
PDF全文
