10.6 μm连续激光对Ge-Sb-Se硫系玻璃损伤特性的研究

吴丽华; 戴世勋; 张培晴; 刘自军; 王训四; 沈祥; 徐铁峰; 聂秋华

doi:doi:10.3788/cjl201542.0706005

中国激光, 2015, 42 (7): 0706005, 网络出版: 2022-09-24

10.6 μm连续激光对Ge-Sb-Se硫系玻璃损伤特性的研究

Study on Damaging Characteristic of 10.6 μm CW Laser to Ge-Sb-Se Chalcogenide Glass

吴丽华 ^*戴世勋张培晴刘自军王训四沈祥徐铁峰聂秋华

作者单位

宁波大学高等技术研究院红外材料及器件实验室, 浙江宁波 315211

补充材料

吴丽华, 戴世勋, 张培晴, 刘自军, 王训四, 沈祥, 徐铁峰, 聂秋华. 10.6 μm连续激光对Ge-Sb-Se硫系玻璃损伤特性的研究[J]. 中国激光, 2015, 42(7): 0706005. Wu Lihua, Dai Shixun, Zhang Peiqing, Liu Zijun, Wang Xunsi, Shen Xiang, Xu Tiefeng, Nie Qiuhua. Study on Damaging Characteristic of 10.6 μm CW Laser to Ge-Sb-Se Chalcogenide Glass[J]. Chinese Journal of Lasers, 2015, 42(7): 0706005.