强激光与粒子束, 2007, 19 (4): 603, 网络出版: 2007-09-17   

SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响

Effect of SiO2 barrier layer on laser induced damage threshold of second harmonic antireflection coatings on LiB3O5 crystal
作者单位
1 中国科学院,理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080
2 中国科学院,研究生院,北京,100039
基本信息
DOI: --
中图分类号: TB43;O484.4
栏目: ICF与激光等离子体
项目基金: 国家863计划项目资助课题
收稿日期: 2006-12-12
修改稿日期: 2007-03-26
网络出版日期: 2007-09-17
通讯作者:
备注: --

于爱芳, 范飞镝, 刘中星, 朱镛, 陈创天. SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(4): 603. 于爱芳, 范飞镝, 刘中星, 朱镛, 陈创天. Effect of SiO2 barrier layer on laser induced damage threshold of second harmonic antireflection coatings on LiB3O5 crystal[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(4): 603.

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