李奇思 1,2梁庭 1,2雷程 1,2李旺旺 1,2[ ... ]熊继军 1,2
作者单位
摘要
1 中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室, 山西 太原 030051
2 中北大学电子测试技术国防科技重点实验室, 山西 太原 030051
利用355 nm全固态紫外激光对硼硅玻璃进行了直写刻蚀实验,采用单一变量法探究了激光能量密度、重复频率、扫描速度、扫描间距、扫描次数对刻蚀结果的影响。研究结果表明,激光能量密度过大时,玻璃易发生严重的崩边裂损现象; 等离子体屏蔽效应随激光能量密度的增大而增强,刻蚀深度减小; 随着重复频率的减小,通道边缘碎裂的现象减轻,刻蚀深度增大; 减小扫描间距可有效改善沟道底面的平整度; 刻蚀深度随扫描次数的增多而增大,同时沟道锥度增大。在较优的加工参数下,实现了宽度为84.8 μm,刻蚀深度为178 μm,底面较平整,沟道垂直度达89.580°的L型微通道的直写刻蚀。
激光技术 激光制造 全固态紫外激光 硼硅玻璃 微通道刻蚀 
中国激光
2018, 45(8): 0802003

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