采用488 nm连续激光在相同曝光量条件下对氧化石墨烯样品进行光照还原实验, 并通过透射率和电阻率来表征还原氧化石墨烯的性质.结果表明：在还原过程中, 通过透过率和电阻率表征的还原程度呈现相同的变化趋势.此外, 还原过程分为两个步骤：达到相对稳定状态之前和达到相对稳定状态.在达到相对稳定状态之前, 激光功率密度越低, 样品的还原程度越高; 但当达到相对稳定的状态后, 激光功率密度越高, 样品的还原程度越高.基于rGO中含氧官能团的变化, 通过光子穿透能力和光对rGO的带隙调制作用对这一现象进行了分析.

采用可见光波段的488 nm、518 nm和637 nm激光对氧化石墨烯薄膜样品进行光照还原实验, 并实时测量还原氧化石墨烯的透过率和电阻率, 通过其变化规律表征不同波长的激光对氧化石墨烯还原程度的影响.结果表明: 氧化石墨烯的透过率和电阻率在不同波长激光照射下呈现不同的变化规律.采用488 nm激光照射时, 在激光功率密度很小的条件下, 氧化石墨烯即可发生还原反应, 还原过程符合光化学还原规律; 采用518 nm与637 nm激光照射时, 只有当激光功率密度大于某一阈值时, 氧化石墨烯才发生还原反应; 激光波长越长, 功率阈值越高; 还原过程符合光热还原规律.该研究结果可为光还原石墨烯薄膜的图案化工艺改进提供参考和依据.