作者单位
摘要
西安理工大学自动化与信息工程学院, 陕西 西安 710048
计算光场自适应光学成像(CAPIS)技术能够同时记录信号的位置和方向,从光场信息中可得到畸变波前斜率,从而重构波前。研究了CAPIS技术探测光学波前畸变,给出了数值计算模型并进行了仿真分析。结果表明,CAPIS技术可准确地探测低阶像差波前,波前残差方均根值小于0.1λ。建立实验光路并实现了对低阶像差波前的探测,波前残差方均根值小于0.5λ。仿真和实验结果均表明,CAPIS技术可有效地探测低阶像差波前,该结果对探索大视场波前探测方法具有重要意义。
自适应光学 波前畸变 计算光场自适应光学成像 Zernike像差 波前探测 光场信息 
激光与光电子学进展
2019, 56(12): 120101

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