武汉理工大学光纤传感国家工程实验室， 湖北 武汉 430070
建立了一种侧边抛磨光子晶体光纤(SP-PCF)的光学模型，通过数值仿真和实验研究了这种侧边抛磨光子晶体光纤在不同抛磨厚度和不同环境介质折射率条件下的光学特性。实验结果表明，存在一个抛磨敏感区域，当抛磨深度在敏感区域内变化时，光子晶体光纤(PCF)的基模有效折射率随着环境介质折射率的改变而发生明显变化。这种侧边抛磨光子晶体光纤可以作为一种环境折射率敏感的传感器，有望在微型生物或化学传感方面得到应用。
传感器 光学特性 时域有限差分法 光子晶体光纤 抛磨深度 中国激光
2011, 38(s1): s105008
