1 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
2 宁波大学光电子功能材料研究所,宁波 315211
3 华中科技大学电子科学与技术系,武汉 430074
用磁控溅射法制备了GdFeCo/AlN/TbFeCo静磁耦合多层薄膜。振动样品磁强计和克尔磁滞回线测试装置的测试结果表明
磁学 磁光记录 中心孔探测磁超分辨 静磁耦合多层薄膜 磁化
1 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
2 宁波大学光电子功能材料研究所,浙江 宁波 315211
3 华中科技大学电子科学与技术系,湖北 武汉 430074
对GdFeCo/AlN/DyFeCo静磁耦合多层薄膜变温磁化方向变化进行了研究。结果表明读出层GdFeCo随温度上升从平面磁化转变成垂直磁化,转变过程中受饱和磁化强度(Ms)和有效各向异性常数影响,但主要受饱和磁化强度(Ms)的影响。在高温时读出层的磁化强度很小,退磁场能减小,在静磁耦合作用下,使GdFeCo读出层的磁化方向发生转变,而且磁化方向的转变在较小的温度范围内变化较快。
薄膜 磁光记录 静磁耦合多层薄膜 磁化
