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 不同氪离子束参数下的蓝宝石辐照实验

刘雨昭 陈智利 费芒芒 惠迎雪 刘卫国

[摘要]在不同氪(Kr)离子束参数下,研究了微波回旋共振离子源对旋转蓝宝石样片表面的刻蚀效果。采用四因素三水平正交实验,分析了Kr+离子束的入射角度、离子束能量、束流密度、作用时间对辐照后蓝宝石表面结构的影响规律,研究...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2019, 56(12):121601

 薄膜微结构的近红外透射诱导增强特性

葛少博 刘卫国 周顺 杨鹏飞 李世杰 黄岳田 孙雪平 林大斌 张进

[摘要]在SiNx薄膜中引入微金字塔结构, 综合利用包含界面的薄膜光学微结构的折射、衍射与干涉现象, 实现透反射的调控.通过单点金刚石切削与纳米压印、等离子体各向异性刻蚀技术相结合, 将大面积、高效率、低成本的微结构制备...

 PDF全文光子学报 | 2019, 48(07):0731001

 低能Kr₊离子束诱导蓝宝石晶体实验研究

费芒芒 陈智利 刘卫国 刘雨昭 惠迎雪

[摘要]使用微波回旋共振离子源制备蓝宝石(A向)自组织纳米结构, 研究不同入射角度下Kr+离子束刻蚀蓝宝石表面形成的自组织纳米结构及其形成过程.采用等离子体与离子束刻蚀设备在不同入射角度下对蓝宝石样品表面进行刻蚀并通过...

 PDF全文光子学报 | 2019, 48(06):0616004

 基于稀疏矩阵的光学元件表面疵病检测

陈晨 王红军 王大森 田爱玲 刘丙才 朱学亮 刘卫国

[摘要]提出了一种基于稀疏矩阵的表面疵病快速拼接方法。该方法采用环形白光光源均匀地照射到被测元件表面, 光经显微散射暗场成像系统后形成暗背景下的亮疵病图像。通过对光学元件的x, y方向进行扫描, 得到子孔径拼接图像。...

 PDF全文中国激光 | 2019, 46(04):0404007

 薄膜光学锥形光栅的制备与光学特性分析

葛少博 刘卫国 周顺 李世杰 杨鹏飞

[摘要]为了在光学薄膜中引入连续轮廓的微结构, 综合利用薄膜的干涉效应与微结构的折反射、衍射效应, 提出一种薄膜光学微结构的制备工艺。基于时域有限差分方法设计了具有可见光波段减反射特性的薄膜光学锥形光栅; 采用单点...

 PDF全文应用光学 | 2019, 40(02):342

 射频聚焦离子源熔石英高确定去除特性研究

惠迎雪 刘卫国 马占鹏 张进 周顺

[摘要]在离子束抛光工艺过程中, 材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用。采用射频离子源对熔石英光学元件的离子束刻蚀特性进行了研究, 利用ZYGO激光干涉仪获得准确的去除函数, ...

 PDF全文应用光学 | 2019, 40(02):284

 基于相干偏振统一理论的Schmidt棱镜衍射特性

孙雪平 刘卫国 卢进军

[摘要]一束光通过屋脊棱镜，在镜内会被分为两条路径传播。两条路径偏振传输特性的差异，导致了零级衍射光斑的分裂现象，严重影响了光学系统的成像质量。为了弄清楚这种分裂现象，利用相干偏振理论，全面研究了不同偏振态的...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2018, 55(04):040301

 基于磁控溅射和ICP刻蚀的RB-SiC表面平坦化工艺

赵杨勇 刘卫国 惠迎雪

[摘要]采用射频磁控溅射技术在RB-SiC表面沉积Si平坦化层, 通过正交试验研究了射频功率、Ar流量和工作气压三个因素对薄膜表面质量和形貌的影响规律, 以获取最佳的薄膜沉积参数.射频功率120 W、工作气压1.2 Pa和Ar流量40 scc...

 PDF全文光子学报 | 2018, 47(03):0324001

 装夹自重变形对大口径绝对面形检测的影响

赵思伟 田爱玲 王大森 刘丙才 朱学亮 刘卫国

[摘要]针对立式大口径平面干涉仪, 采用结合Zernike多项式的三平面互检面形检测方法, 研究参考平面在装夹情况下的自重变形对绝对面形检测结果的影响.运用ANSYS有限元分析方法研究了不同参数下的装夹和自重变形情况, 得到了最...

 PDF全文光子学报 | 2018, 47(02):0212004

 基于LabVIEW 的角分辨空间激光散射测量系统

王璐璐 高爱华 刘卫国 闫丽荣 陈智利

[摘要]设计了一种基于虚拟仪器技术的角分辨空间激光散射测量系统。以双向反射分布函数( BRDF )作为理论基础,采用虚拟仪器技术对空间激光散射测量系统进行编程,实现了对测量系统的运动控制,散射光实时采集、处理、显示、数据...

 PDF全文光学与光电技术 | 2018, 16(03):40

 基片温度对磁控溅射HfO2薄膜结构和性能影响分析

惠迎雪 刘政 王钊 刘卫国 徐均琪

[摘要]在纯氧条件下，采用直流磁控溅射技术在单晶硅基片上沉积氧化铪(HfO2)薄膜，并研究了沉积过程中基片温度对薄膜结构和性能的影响规律。利用X射线衍射仪(XRD)和X射线能谱(XPS)表征了薄膜的晶体结构和组分，利用原子力显...

 PDF全文应用光学 | 2016, 37(06):872

 GaAs/Al_0.3Ga_0.7As量子阱红外探测器光谱特性研究

胡小英 刘卫国 段存丽 蔡长龙 关 晓

[摘要]采用金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)生长GaAs/Al0.3Ga0.7As量子阱材料，制备300 μm×300 μm台面，内电极压焊点面积为20 μm×20 μm，外电极压焊点面积为80 μm×80 μm单元量子阱器件两种。利用傅里...

 PDF全文红外与激光工程 | 2015, 44(08):2305

 势垒高度对GaAs/Al_xGa_1-xAs QWIP 光谱特性的影响(英文)

胡小英 刘卫国 段存丽 蔡长龙 牛小玲

[摘要]为了确定束缚态到准束缚态工作模式QWIP响应波长与势垒高度关系，采用金属有机物化学气相沉积法生长制备势垒高度不同GaAs/AlxGa1-xAs QWIP样品，采用傅里叶光谱仪对样品进行77 K液氮温度光谱测试。结果显示1#，2#样品...

 PDF全文红外与激光工程 | 2015, 44(10):2995

 低能离子束诱导蓝宝石自组织纳米结构与光学性能研究

陈智利 刘卫国 杨利红

[摘要]针对蓝宝石有序纳米结构的制备，使用微波回旋共振离子源，研究了低能Ar+离子束在不同参数下刻蚀蓝宝石(C 向)表面形成的自组织纳米结构及其光学性能。结果表明，当离子束入射能量为1200 eV、束流密度为265 μA/cm2 时...

 PDF全文中国激光 | 2015, 42(03):0306003

 离子源工艺参数对BCB胶刻蚀速率和表面粗糙度的影响

包 强 刘卫国 蔡长龙 周 顺 陈智利 惠迎雪 姬 娇

[摘要]为了研究离子束刻蚀抛光过程中离子源工艺参数对刻蚀速率及表面粗糙度的影响, 采用微波离子源为刻蚀离子源, 以BCB胶为主要研究对象, 研究了离子束能量、离子束电流、氩气流量、氧气流量对BCB胶刻蚀速率及表面粗糙度的...

 PDF全文应用光学 | 2015, 36(05):795

 低能离子束诱导Ag表面纳米金字塔微结构

陈智利 刘卫国 张锦 王蒙皎

[摘要]利用离子束溅射诱导实验方法，在单晶Si（100）基底上辅助沉积银膜，研究了低能Ar+离子束30°入射时，不同离子束能量和束流密度以及基底温度对Ag纳米结构的影响.结果表明：在较低基底温度下（32 ~100℃）辅助沉积...

 PDF全文光子学报 | 2014, 43(01):0116003

 低能离子束诱导单晶硅点状纳米结构与光学性能研究

陈智利 刘卫国

[摘要]使用微波回旋共振离子源，研究了低能Ar+束在不同入射角度下对旋转单晶硅（100）表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明：样品旋转、离子束能量为1000 eV、束流密度为265 μA/cm2、刻蚀时间为60 min时，在不同入射角度...

 PDF全文光学学报 | 2013, 33(09):0922003

 GaAs/AlxGa1-xAs量子阱红外探测器微结构研究

胡小英 刘卫国

[摘要]采用金属有机物化学气相沉积法生长了两种不同结构参数GaAs/AlxGa1-xAs量子阱材料。利用傅里叶光谱仪分别对势垒中Al组分为0.20,0.30的1#，2#样品进行77 K液氮温度下光谱响应测试。结果显示：1#，2#峰值响应波长为8.38...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2013, 25(06):1405-1408

 MOVCD生长GaAs/AlGaAs量子阱红外探测器的暗电流特性

胡小英 刘卫国 陈智利

[摘要]用金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)生长了GaAs/AlGaAs量子阱材料, 分别制备了300μm×300μm台面, 峰值波长8.5μm, 外电极压焊点面积80μm×80μm, 内电极压焊点面积20μm×20μm的单元测试样品。用变温...

 PDF全文半导体光电 | 2012, 33(06):809-812

 高消光比多偏振态光源系统设计

闫丽荣 高爱华 刘卫国

[摘要]在现代工程测量中，由于工程的各项技术指标要求越来越高，相应地对光源也提出了更高的要求。依据晶体双折射和晶体相位延迟对光偏振态的影响以及光的折射角与光振动方向有关的原理，设计了高消光比多偏振态光源系统，...

 PDF全文应用光学 | 2012, 33(04):660-665

 热释电探测器积分响应测试系统研究

张佩 高爱华 刘卫国

[摘要]为了实现对红外探测器积分响应的自动测量, 配合虚拟仪器技术搭建了一套热释电红外探测器积分响应自动测试系统。利用双绞线将测试仪器与计算机连接, 以LabVIEW为开发平台编写软件测试系统, 遥控测量仪器, 实现计算机自...

 PDF全文光学技术 | 2011, 37(01):124-128

 透红外硫系玻璃微压印工艺的仿真研究

沈萍 刘卫国

[摘要]为了获得更好的微压印工艺填充效果,利用有限元方法研究模压工艺的主要参数压印温度、压印力和压印时间对压印效果的影响,并对工艺参数进行优化;对压印过程中不同的模具结构的应力分布进行了研究。仿真结果表明,工艺参...

 PDF全文光学仪器 | 2011, 33(02):83-88

 二氧化硅薄膜的图形化及Si-V型槽的制备

刘君娥 郭忠达 刘卫国 刘欢

[摘要]在硅的湿法腐蚀工艺中，热氧化形成的SiO2薄膜掩蔽层非常牢固，且致密性好，是极好的掩蔽层材料。但是它的图形化工艺存在一定的困难，由于其良好的致密性，在湿法时腐蚀时间较长，常引起光刻胶起皱、浮胶。本文在SiO2...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):216

 锆钛酸铅薄膜的图形化研究

蔡长龙 黄静 翟于嘉 马卫红 刘卫国

[摘要]本文介绍了一种锆钛酸铅(PZT)薄膜的湿法腐蚀工艺。采用溶胶凝胶法在Pt/Ti/Si基底上制备PZT薄膜,在研究腐蚀溶液组分、温度以及浓度对腐蚀速率影响的基础上,成功获得了PZT薄膜微图形化的湿法腐蚀工艺。通过实验研究,获...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):210

 基于非晶硅的微桥结构阵列制作工艺研究

刘欢 王珊珊 蔡长龙 周顺 刘卫国

[摘要]本文研究了制作非晶硅微桥结构的关键工艺—牺牲层工艺，通过大量实验研究了牺牲层薄膜制备工艺、固化工艺、湿法腐蚀工艺、等离子刻蚀工艺，得到一系列重要的工艺参数。在此基础上，对原有工艺参数进行了优化，解决了...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):218

 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜

杨旭 蔡长龙 周顺 刘欢 刘卫国

[摘要]氧化钒薄膜及其在微电子和光电子领域中的应用已成为国际上新颖功能材料研究热点之一。因氧化钒薄膜具有高的电阻温度系数（TCR）值，其阻值随入射辐射引起的温升有非常灵敏的改变，微测辐射热计正是利用了这一特性，因...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):137

 单晶热释电探测器混合集成制造方法研究

金娜 刘卫国

[摘要]在比较几种探测器集成制造方法的基础上，提出采用各向异性导电膜作为电信号互联的手段，实现热释电探测器与信号处理电路的混合集成，从而演示了一种兼容性良好的集成化多传感器制造方法。对单晶钽酸锂热释电探测器采...

 PDF全文应用光学 | 2010, 31(02):313-316

 高吸收型滤光片透过率均匀性测试系统

王越 刘卫国 高爱华 孙鑫

[摘要]组建了高吸收型滤光片的透过率均匀性测试系统，硬件系统由光学系统、光电转换系统和信号采集控制系统3部分组成。设计了基于LabVIEW 8.0的软件系统，测试软件采用模块化方法编制。计算机控制二维电控转台移动待测滤光...

 PDF全文应用光学 | 2010, 31(02):256-259

 一种磁流变抛光方法的探讨

阳志强 郭忠达 陈智利 刘卫国

[摘要]探讨了一种进行磁流变抛光的方法，针对该方法的运动方式进行了磁流变抛光过程中相对速度和驻留时间的计算，并模拟了相对速度与工件口径、相对速度和时间乘积与工件口径的关系曲线。在理论分析的基础上，进行了相应的...

 PDF全文应用光学 | 2009, 30(03):500-504

 自适应红外目标特征增强算法

郭佳 秦文罡 刘卫国

[摘要]利用直方图均衡化和灰度变换增强算法，不能有效增强红外图像目标。鉴于此，在研究红外图像特点的基础上，提出了一种自适应红外目标特征增强算法。该算法先对红外图像进行中值滤波，滤除掉图像中的随机噪声，然后利用...

 PDF全文应用光学 | 2009, 30(02):357-360