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   将选定结果: 

 二氧化硅薄膜的图形化及Si-V型槽的制备

刘君娥 郭忠达 刘卫国 刘欢

[摘要]在硅的湿法腐蚀工艺中,热氧化形成的SiO2薄膜掩蔽层非常牢固,且致密性好,是极好的掩蔽层材料。但是它的图形化工艺存在一定的困难,由于其良好的致密性,在湿法时腐蚀时间较长,常引起光刻胶起皱、浮胶。本文在SiO2...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):216

 锆钛酸铅薄膜的图形化研究

蔡长龙 黄静 翟于嘉 马卫红 刘卫国

[摘要]本文介绍了一种锆钛酸铅(PZT)薄膜的湿法腐蚀工艺。采用溶胶凝胶法在Pt/Ti/Si基底上制备PZT薄膜,在研究腐蚀溶液组分、温度以及浓度对腐蚀速率影响的基础上,成功获得了PZT薄膜微图形化的湿法腐蚀工艺。通过实验研究,获...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):210

 基于非晶硅的微桥结构阵列制作工艺研究

刘欢 王珊珊 蔡长龙 周顺 刘卫国

[摘要]本文研究了制作非晶硅微桥结构的关键工艺—牺牲层工艺,通过大量实验研究了牺牲层薄膜制备工艺、固化工艺、湿法腐蚀工艺、等离子刻蚀工艺,得到一系列重要的工艺参数。在此基础上,对原有工艺参数进行了优化,解决了...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):218

 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜

杨旭 蔡长龙 周顺 刘欢 刘卫国

[摘要]氧化钒薄膜及其在微电子和光电子领域中的应用已成为国际上新颖功能材料研究热点之一。因氧化钒薄膜具有高的电阻温度系数(TCR)值,其阻值随入射辐射引起的温升有非常灵敏的改变,微测辐射热计正是利用了这一特性,因...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):137

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