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 TFT光刻平面补偿优化

张玉虎 徐海涛 李亚文 罗传文 曹少波 李力

[摘要]TFT线宽或线间距接近光刻机分辨率时,光刻图形容易产生光刻胶残留不良,为改善该问题,本文从光刻图形出发,以最佳光刻图形所在位置为基准,计算出光刻机光刻平面的优化补偿量,从而实现对光刻平面的补偿优化。首先,...

 PDF全文光电工程 | 2019, 46(05):180444

 TFT 光刻平面倾斜对光刻图形的影响及改善

张玉虎 李亚文 罗传文 李 力 曹少波 马小辉

[摘要]薄膜晶体管光刻制程中,光刻胶光刻平面位置是决定光刻图形质量的关键因素。为了在光刻机最小分辨率条件下改善光刻图形质量,本文从光刻胶内反射光线的反射特点出发,以减小光刻胶内反射光线对非光刻区域的光刻光强及...

 PDF全文光电工程 | 2019, 46(10):180679

 光刻胶段差对光刻图形的影响与改善

张玉虎 李亚文 刘小波 马小辉 张旭

[摘要]TFT光刻制程中, 光刻胶段差使光胶在同一个光刻平面上, 各区域的光刻程度不同, 严重影响着光刻图形的质量。文章从光刻胶段差对光刻图形影响的原因进行分析, 根据光强在投影光刻机光刻系统中焦点附近与光刻胶内部的变化...

 PDF全文液晶与显示 | 2018, 33(08):653

 TFT光刻DICD均一性改善优化

张玉虎 岳浩 王军帽 李亚文

[摘要]为了对TFT((Thin Film Transistor)光刻DICD(Develop Inspection Critical Dimension)均一性进行改善,分析了光刻DICD存在差异性的原因,并建立了改善循环流程。对循环流程改善原理及方法进行说明。首先,根据处于光刻...

 PDF全文液晶与显示 | 2016, 31(10):929

 高亮度顶发射单色绿光OLED微显示器件制备

段瑜 张筱丹 孙浩 朱亚安 王光华 宋立媛 于晓辉 万锐敏 季华夏 李亚文

[摘要]通过采用高效磷光体系材料和顶发射有机发光结构, 配合自有的 SVGA060全数字信号电路系统架构 CMOS硅基驱动电路, 获得了发光峰位于 535 nm的高亮度单色绿光、 0.6英寸、800×600分辨率 OLED微显示器件, 最大亮度可...

 PDF全文红外技术 | 2015, 37(12):1022

 AM-OLED微型显示器在红外系统中的应用

李延东 杨俊彦 李亚文 周 琴

[摘要]AM-OLED微型显示器由于其优良的性能,在红外系统图像显示方面有着广泛的应用。由于红外信号与显示图像的特殊性,需要对显示器的性能进行相关的优化,以达到优良的显示效果。通过相关研究,有效提升了与红外系统相配套...

 PDF全文红外技术 | 2012, 34(04):200-204

 光子筛的超分辨聚焦特性研究

李亚文 陈军宁 贾佳 朱效立 吴璇 谢常青

[摘要]对光子筛的结构进行了优化设计,通过实验研究了光子筛对355 nm 激光的聚焦特性,并与传统的聚焦元件波带片进行了比较。首先,使用自行编写的光子筛自动生成宏文件程序,优化设计了光子筛图形;制作了特征尺寸为2 μm...

 PDF全文光电工程 | 2009, 36(03):130-134

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