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 扫描干涉场曝光中关键技术的现状与发展趋势

程伟林 朱菁 张运波 曾爱军 黄惠杰

[摘要]扫描干涉场曝光(SBIL)在制作大尺寸、纳米精度的衍射光栅中有着独特的优势。为了充分了解SBIL 系统的技术特点,介绍了国内外SBIL 技术的发展现状,并针对SBIL 系统中的各个关键技术进行技术性的调研与总结,着重分析了...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2015, 52(10):100001

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