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将选定结果:
[摘要]投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DOE进行了...
 PDF全文中国激光 | 2013, 40(06):0616001
[摘要]均匀照明是投影光刻机中实现光刻线条高度均一性的重要条件。采用微透镜阵列作为照明匀光器件,能够在实现矩形照明光斑的同时获得极高的远场分布均匀性。基于微透镜阵列现有的加工工艺,设计出二维方向分开的柱面微透...
 PDF全文中国激光 | 2013, 40(02):0216001
[摘要]针对星敏感器系统探测要求,设计了像方远心光路的双高斯光学系统。该系统在满足弥散斑和能量集中度等要求的情况下,具有相对孔径大、畸变小、色差小以及星点位置对离焦不敏感等特点。利用调制传递函数仪测量了星敏感...
 PDF全文光学学报 | 2013, 33(05):0522005
[摘要]在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强,获得更好的成像性能。概述了高分辨率投影光刻机照明系统中基于衍射光学元件(DOE)、微透镜阵列(MLA)和微反...
 PDF全文激光与光电子学进展 | 2011, 48(11):111101