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 多脉冲激光作用下高反膜中本征缺陷和光致缺陷的研究

王营 赵元安 邵建达 范正修

[摘要]本文研究了在多脉冲激光作用下高反膜中光致缺陷和本征缺陷的作用。HfO2 /SiO2 高反膜采用电子束蒸发制备。对样品进行了1-on-1和S-on-1的损伤测试,测试波长为355nm,脉宽为8ns。实验发现,多脉冲阈值要比单脉冲低。分...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2011, 9(09):093102

 离子辅助偏压对HfO2和SiO2单层膜的性能的影响

朱美萍 易葵 范正修 邵建达

[摘要]本文在K9玻璃基底上制备了HfO2和SiO2单层膜,利用莱宝公司的APS源对其进行等离子体辅助。HfO2单层膜采用偏压为70到130V的能量进行辅助,SiO2单层膜采用偏压为70到170V的能量进行辅助。对薄膜的光学、结构、机械性能,...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2011, 9(02):023101

 -1级高衍射效率的浅刻蚀多层介质膜光栅的设计

汪剑鹏 晋云霞 刘世杰 邵建达 范正修

[摘要]本文报道了一种新的浅刻蚀多层介质膜光栅(multilayer dielectric grating MDG)的设计。该光栅在中心波长1064nm近Littrow角入射时,对应的-1级衍射效率接近100%。本文采用了粒子群优化算法优化设计了MDG,采用傅里叶模...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):29

 Ni/C多层膜通过软X射线振荡反射率的结构精细分析

邓淞文 齐鸿基 魏朝阳 易葵 范正修 邵建达

[摘要]X射线小角掠入射反射率曲线是确定多层膜结构的传统方法,但是该曲线对多层膜的界面状态(如组成)并不敏感。虽然软X射线振荡反射率曲线对膜层的结构和成分极为敏感,达到了亚纳米量级,但是在处理曲线时,过多的拟合参...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):170

 不同类型色散镜的设计和分析

王胭脂 邵建达 张伟丽 魏朝阳 黄建斌 晋云霞 易葵 范正修

[摘要]分别设计和讨论了三种不同类型的色散镜。第一种是啁啾镜对,通过变化色散振荡周期,在波长550-1050nm的范围内提供光滑的群延迟色散(group delay dispersion,GDD);第二种是高色散镜,结合chirped mirrors(CM) 和 G...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):18

 多模平板周期波导中的导模共振

孙天玉 晋云霞 邵建达 范正修

[摘要]利用等效折射率理论和平板波导本征值方程,我们设计了一个带有兼并态的多模平板周期波导。当以设计的波长和入射角入射时,在等效波导层内多个泄露模可以同时被激发。利用严格耦合波理论,我们求解了此入射条件下的反...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(06):557

 高性能偏振薄膜的制备

朱美萍 易葵 张伟丽 范正修 贺洪波 邵建达

[摘要]偏振薄膜的分光特性对膜层厚度非常敏感,本文对一个规整膜系偏振膜的敏感层进行了优化,在不增加总的膜层层数和厚度的情况下增加了偏振膜的带宽;建立了一套膜厚自动控制系统,并对不同的控制方法引起的误差进行了分...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(06):624

 激光预处理对HfO2单层膜缺陷的影响

李笑 赵元安 刘晓凤 邵建达 范正修

[摘要]本文利用激光诱导损伤阈值的光斑效应研究了激光预处理对电子束蒸发制备的HfO2单层膜缺陷的影响。研究表明HfO2单层膜的损伤阈值可以提高1.3~1.6倍,同时,激光预处理可以清除薄膜中低阈值缺陷,部分高阈值缺陷也可以...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(06):615

 利用损伤几率曲线拟合研究ZrO2/SiO2高反射膜的激光预处理机理

李笑 刘晓凤 赵元安 邵建达 范正修

[摘要]本文引入激光诱导损伤几率曲线拟合方法研究ZrO2/SiO2高反射膜的激光预处理机理。测得样品预处理扫描前后的损伤阈值后,利用损伤几率曲线拟合出缺陷的参数。实验表明,激光预处理的作用包括两个方面:清除薄膜中低阈值...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(06):598

 单一材料导模共振反射滤光片的设计与制作

孙天玉 麻健勇 付小勇 汪剑鹏 晋云霞 邵建达 范正修

[摘要]我们设计和制作了波导层和光栅层都由Ta2O5构成的单一材料导模共振滤光片。这种单一材料结构易于加工,并且能够避免波导层和光栅层用不同材料时交接面上的缺陷。Lambda 900光谱仪测量出TE波正入射下反射峰值在1040nm处...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(05):447

 内布儒斯特导模共振滤光片的设计

傅小勇 易葵 邵建达 范正修

[摘要]本文设计了一种内布儒斯特导模共振滤光片,对于这种导模共振滤光片,布儒斯特反射发生在光栅和波导层的界面,而不是发生在空气和光栅层的界面。在布儒斯特角度(60度)下,这个导模共振滤光片在共振波长800nm处的反射...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(06):462

 深紫外/紫外氟化物薄膜的光学常数

薛春荣 易葵 魏朝阳 邵建达 范正修

[摘要]研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190nm-...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(05):449

 Y2O3含量对YSZ薄膜应力、结构和光学性能的影响

肖祁陵 邵淑英 邵建达 范正修

[摘要]采用电子束蒸发法制备出四种不同Y2O3含量的氧化钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜样品。利用ZYGO Mark Ⅲ-GPI数字波面干涉仪、X射线衍射仪和紫外-可见分光光度计研究了不同Y2O3含量对薄膜的应力、结构和光学性能的影响。结果表...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(02):162

 光学薄膜吸收测量的成像光热检测技术

陶春先 赵元安 贺洪波 李大伟 邵建达 范正修

[摘要]为测量大口径光学薄膜器件的吸收,提出了一种新的基于图像锁相技术的成像光热检测法。利用光热检测的单点模式和所提出的成像模式应用于吸收测量,其数值结果证明成像光热法的可行性。相对于传统的逐点移动的栅扫描测量...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(11):1061

 相干光束的同轴合成

董洪成 李笑 魏朝阳 贺洪波 赵元安 邵建达 范正修

[摘要]基于偏振转换原理,提出了一种相干光束同轴合成技术,多束激光可以同轴耦合为一束激光,具有较高的合成效率和良好的光束质量。提出了一种基于主振荡能量放大结构的偏振光术合成系统,分析了单元合成效率和系统合成效率。...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(11):1012

 倾角沉积制备Ta2O5薄膜的光学性质和微结构研究

肖秀娣 董国平 贺洪波 齐红基 范正修 邵建达

[摘要]本文利用电子束倾斜沉积技术制备了Ta2O5薄膜,并用扫描电镜研究了沉积角度对薄膜的表面形貌和微结构的影响。制备的Ta2O5薄膜为具有高度取向的斜柱状多孔结构,其有效折射率和堆积密度都随着沉积角度的增加而减小。Ta...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(10):967

 单材料导模共振滤光片的设计

傅小勇 易葵 邵建达 范正修

[摘要]本文设计了一种光栅层和波导层材料相同的导模共振滤光片,并对它的光学性质进行了讨论。这个导模共振滤光片在其共振波长800nm处的反射率接近100%,带宽为20nm,同时它在700nm到1000nm范围内其它波长处的反射率均小于...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(01):9

 宽带偏振薄膜的设计

傅小勇 易葵 邵建达 范正修

[摘要]当光束倾斜入射在光学界面上时,S光和P光的透过率和反射率要分开来考虑。通过选用两种折射率满足Brewster条件的材料,可以消除P光在界面上的反射。采用这两种材料来设计和制备多层光学薄膜,就可以实现P光高透过而S光...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2008, 6(07):544

 电子束蒸发制备三倍频分离膜的0.532μm激光预处理效应

李大伟 邵建达 范正修 贺洪波

[摘要]研究了电子束蒸发制备三倍频分离膜的0.532μm激光预处理效应。实验发现激光预处理之前样品的损伤阈值为,而预处理之后为。损伤后的样品表面观察到两种损伤形貌,即锥形坑以及平底坑。进一步研究发现,激光预处理前后...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2008, 6(05):386

 HfO2的纯度对紫外多层膜反射率的影响

袁景梅 齐红基 赵元安 范正修 邵建达

[摘要]用辉光放电质谱法和二次离子质谱仪测定了两种HfO2材料及它们相应的单层膜中的杂质含量,结果发现,无论是在体材料中还是在用电子束蒸发技术沉积的材料单层薄膜中,ZrO2都是这两种HfO2材料中最主要的杂质。而且,这两...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2008, 6(03):222

 SiO2保护层和退火对Ta2O5薄膜激光损伤阈值影响的对比研究

许程 董宏成 麻健勇 晋元霞 邵建达 范正修

[摘要]Ta2O5薄膜采用传统的电子束蒸发方法沉积在BK7基底上。文中对SiO2保护层和退火对Ta2O5薄膜的激光损伤阈值的不同影响进行了研究。结果表明,SiO2保护层不会影响薄膜内的电场分布,薄膜微结构和微缺陷密度,但是会使薄膜...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2008, 6(03):228

 引入过渡层提高介质减反膜的抗激光损伤阈值

王聪娟 韩朝霞 晋云霞 邵建达 范正修

[摘要]提出了一种用于提高介质减反膜的损伤阈值的新的方法,在H2.5L (H:HfO2, L:SiO2)的膜层与基底之间引入4个1/4光学厚度的SiO2薄膜,发现抗激光损伤阈值提高了50%,并且保持1064nm处的反射率低于0.09%。本文分析了造成这...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2008, 6(10):773

 Influences of thickness ratio of two materials on the residual stress of multilayers

申雁鸣 邵淑英 贺洪波 邵建达 范正修

[摘要]

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2007, 5(s1):272

 薄膜材料对TiO2基薄膜激光损伤阈值的影响

姚建可 范正修 贺洪波 邵建达

[摘要]本文比较研究了三种TiO2基材料,金红石结构TiO2、锐钛矿结构TiO2及TiO2+Ta2O5混合膜料对电子束蒸发制备的薄膜光学性能、结构、表面性能(粗糙度和缺陷密度)及激光损伤阈值(LIDT)的影响。薄膜均为多晶锐钛矿结构。片...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2007, 5(09):556

 不同膜层数的Mo/Si多层膜的表界面粗糙度和软X射线反射率

秦俊岭 邵建达 易葵 范正修

[摘要]用磁控溅射法制备了顶层分别是Mo膜层和Si膜层的两个系列的Mo/Si多层膜,它们的周期厚度相同但是膜层数各不相同。Mo/Si多层膜的周期厚度和界面粗糙度由小角X射线衍射(SAXRD)曲线拟和得到。用原子力显微镜测量了Mo/S...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2007, 5(05):301

 用于掺钛蓝宝石激光系统的高反膜的激光损伤

姚建可 曾维强 范正修 贺洪波 邵建达

[摘要]用电子束蒸发制备了用于掺钛蓝宝石啁啾脉冲放大激光系统的TiO2/HfO2/SiO2高反膜,其带宽约为176nm(R>98%, λ0=800nm),激光损伤阈值(LIDT)为2.4 J/cm2。通过TiO2和HfO2单层膜的透过光谱计算了这两种材料的折射...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2007, 5(12):724

 LBO晶体上具有不同厚度过渡层的倍频增透膜的设计和制备

邓震霞 高慧慧 肖连君 贺洪波 范正修 邵建达

[摘要]基于矢量法,在LiB3O5(LBO)晶体上设计具有不同过渡层厚度的二倍频增透膜,设计结果表明,在保证能达到理想的反射率的条件下,四层基准膜系中引入的SiO2过渡层的厚度可以在很宽的范围内变化。利用电子束热蒸发法分别...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2007, 5(01):60

 对称膜系在多层膜匹配设计中的应用

王丹 范正修 黄建兵 毕军 王英剑

[摘要]本文从匹配膜的角度研究了对称膜系的特点,对其等效折射率和等效位相随对称膜系各材料厚度和折射率的变化规律作了总结,并根据总结出的规律设计了一个倍频波长分离膜,最后采用双离子束溅射的工艺对设计膜层进行制备...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2006, 4(11):675

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