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 Sb掺杂Si3N4基Si量子点薄膜的制备与结构

莫镜辉 袁俊宝 杨培志 张志恒 王云祥 刘黎明

[摘要]基于多靶射频磁控溅射技术, 结合快速光热退火后处理制备了Sb掺杂Si3N4基Si量子点(Si-QDs)薄膜。采用透射电镜、掠入射X射线衍射、拉曼光谱和光致发光光谱等手段对薄膜的微结构和发光特性进行了研究, 分析了Sb掺杂对Si...

 PDF全文光子学报 | 2018, 47(02):0231003

 沉积压力对氢化非晶硅薄膜特性的影响

袁俊宝 杨 雯 陈小波 杨培志 宋肇宁

[摘要]采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统, 以乙硅烷和氢气为气源, 普通钠钙玻璃为衬底制备了氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜, 研究了沉积压力对非晶硅薄膜的沉积速率、 光学带隙以及结构因子的影响。 采用台阶仪、 紫外可见分...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2016, 36(02):326

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