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[摘要]线性渐变透过率薄膜元件是光刻系统中光可变衰减器的关键元件。采用电子束蒸发实现了近线性248 nm渐变透过率光学薄膜的设计与制备。通过对敏感度进行计算和优化,基于减反膜基础膜系实现了低敏感非规整膜系的设计。采用...
 PDF全文中国激光 | 2020, 47(06):0603001
[摘要]宽带高损伤阈值低色散镜是拍瓦激光系统中不可或缺的光学元件。系统性地研究了金属-介质镜、介质镜和组合介质镜的光学性能、色散特性、抗损伤特性以及损伤机理。介质膜能够提高金属膜的损伤阈值,银-介质低色散镜的传输...
 PDF全文中国激光 | 2020, 47(11):1103001
Optical characteristics of ultrathin amorphous Ge films
[摘要]
 PDF全文Chinese Optics Letters | 2020, 18(10):103101
[摘要]从光谱性能、激光损伤阈值和膜层应力等方面综述了激光偏振薄膜的研究进展。简述了中国科学院上海光学精密机械研究所针对我国惯性约束聚变激光驱动装置对大尺寸偏振薄膜的要求,在镀膜材料选择、膜系设计、薄膜制备等方...
 PDF全文光学学报 | 2019, 39(10):1000001
[摘要]基于高反射膜层和Gires-Tournois(G-T)腔, 优化设计了一对低振荡高色散镜。该色散镜对的中心波长为800 nm, 能够在680~920 nm的带宽范围内提供-200 fs2的平坦的群延迟色散。基于双离子束溅射工艺, 利用Nb2O5和SiO2制备...
 PDF全文中国激光 | 2018, 45(10):1003001
[摘要]充氧口位置直接影响了真空室内的氧气分布,进而对薄膜的光学性能造成重要影响。为了研究充氧口位置对HfO2薄膜性质的影响,在2个典型的充氧口位置采用电子束蒸发技术在石英基底上沉积了HfO2单层膜,并结合紫外-可见光...
 PDF全文中国激光 | 2016, 43(10):1003001
[摘要]针对我国惯性约束聚变装置(ICF)对高性能传输反射镜元件的性能要求, 探索了大口径传输反射镜制备涉及的关键技术与工艺。深入开展了K9玻璃坯片研制、光学冷加工、传输反射镜镀膜和激光预处理等方面的研究工作。提出了4...
 PDF全文光学 精密工程 | 2016, 24(12):2902
[摘要]综述了国内外科研人员在高性能偏振膜的研制方面开展的工作, 主要涉及偏振膜光谱性能、抗激光损伤阈值和膜层应力控制等方面的研究。针对我国神光系列装置对偏振膜的性能要求, 简述了中国科学院上海光学精密机械研究所...
 PDF全文光学 精密工程 | 2016, 24(12):2908
[摘要]回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾(KDP/DKDP)晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键...
 PDF全文光学 精密工程 | 2016, 24(12):2938
[摘要]相比透射型组合滤波器件,提出了只需要由一种反射元件构成的反射型组合滤波器件的光路。在保证角谱选择性的前提下,降低了设计和制备的难度。另外,通过膜系设计和电场强度比较,发现此反射型组合器件具有比透射型组...
 PDF全文光学学报 | 2015, 35(06):0616002
[摘要]研究了SiO2薄膜的微结构与水吸收特性之间的内在联系,分别在Si、Al2O3和JGS3基底应用电子束蒸发沉积SiO2薄膜。实验用原位傅里叶红外漫反射光谱(in-situ DRIFTS)检测薄膜水吸收特性,并结合原子力显微镜(AFM)进行微...
 PDF全文中国激光 | 2014, 41(07):0707001
[摘要]介绍了相移Rugate薄膜空间滤波器的基本结构和原理, 设计了相移Rugate薄膜滤波器,根据实际制备的条件进行了误差分析,给出了制备技术需要达到的精度和所需要的薄膜材料的消光系数,计算了相应的损耗,并分析了空间滤...
 PDF全文中国激光 | 2014, 41(10):1007001
[摘要]利用原子力显微镜观察熔石英不同蚀刻时间的表面形貌,结合二次离子质谱分析,研究了熔石英的再沉积层结构和杂质分布。结果表明,熔石英表面深度10 nm的再沉积层内存在大量微裂纹和杂质,经蚀刻展开形成nm级划痕和坑点...
 PDF全文强激光与粒子束 | 2014, 26(07):072011
[摘要]摩擦系数是表征光学玻璃抛光特性的重要参量,平均摩擦系数决定了抛光速率,摩擦系数的变化范围影响光学玻璃的面形精度和表面粗糙度。通过正交实验,研究了抛光过程中实验因素对磷酸盐激光玻璃和光学沥青抛光胶之间摩...
 PDF全文中国激光 | 2013, 40(04):0406001
[摘要]以多层介质膜或金属膜为基底的脉冲压缩光栅在利特罗角附近使用,具有衍射效率高、衍射光谱带宽等特点,需要对其衍射光谱进行高分辨率的准确测量,以便为其制作工艺的改进提供可靠依据。根据双光路测量原理,建立了衍...
 PDF全文光学学报 | 2013, 33(10):1005002
[摘要]研制了四种不同沥青和松香含量的光学沥青抛光胶,对其形貌、针入度、玻璃化转变温度、软化点和粘度等参量进行了表征。从组成和结构分析了抛光胶三种物理状态变化原因,将玻璃化转变温度和软化点作为其临界转变温度。...
 PDF全文强激光与粒子束 | 2013, 25(08):1989-1994
[摘要]随着激光在航天器中应用的增加,出现了激光系统在空间环境中失效的现象。激光薄膜和基底元件(包括晶体和玻璃)是激光产生和输出的重要组成部分,空间环境对它们损伤性能的影响直接关系到激光系统的稳定性、使用寿命...
 PDF全文激光与光电子学进展 | 2012, 49(04):040001
[摘要]利用化学沥滤技术,分析了亚表面裂纹对基底表面和减反射膜激光损伤阈值(LIDT)的影响。通过去除或保留研磨裂纹,获得了亚表面裂纹数密度有明显区别的两类基底。为了凸出亚表面裂纹层的作用,基底采用化学沥滤去除另外...
 PDF全文中国激光 | 2012, 39(08):0807001
[摘要]利用HF蚀刻和热处理,结合原子力显微(AFM)分析,对传统抛光和磁流变抛光的表面结构进行了表征。为了分析热处理凸起的形成源,抛光表面在热处理前分别采用超声清洗、化学沥滤和HF蚀刻三种不同的表面处理技术进行处理,...
 PDF全文中国激光 | 2012, 39(08):0803004
[摘要]脆性材料的研磨过程会不可避免地产生亚表面损伤层,对亚表面损伤层的表征和抑制一直是获得高激光损伤阈值熔石英光学元件的关注热点。回顾了几种亚表面有损表征技术,通过实验重新评价了蚀刻表面峰谷(PV)粗糙度法的可...
 PDF全文中国激光 | 2012, 39(03):0303007
[摘要]本文在K9玻璃基底上制备了HfO2和SiO2单层膜,利用莱宝公司的APS源对其进行等离子体辅助。HfO2单层膜采用偏压为70到130V的能量进行辅助,SiO2单层膜采用偏压为70到170V的能量进行辅助。对薄膜的光学、结构、机械性能,...
 PDF全文Chinese Optics Letters | 2011, 9(02):023101
[摘要]为了获得光学性质均匀的大面积软X射线多层膜,必须控制好周期结构中单层膜的厚度均匀性。为此建立了磁控溅射薄膜沉积技术中单层膜厚度均匀性的分析和控制模型,解释了基底变速转动法可用来获得膜厚均匀的多层膜,并根...
 PDF全文光学学报 | 2011, 31(11):1131001
[摘要]为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩...
 PDF全文强激光与粒子束 | 2011, 23(03):675-680
[摘要]X射线小角掠入射反射率曲线是确定多层膜结构的传统方法,但是该曲线对多层膜的界面状态(如组成)并不敏感。虽然软X射线振荡反射率曲线对膜层的结构和成分极为敏感,达到了亚纳米量级,但是在处理曲线时,过多的拟合参...
 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):170
[摘要]分别设计和讨论了三种不同类型的色散镜。第一种是啁啾镜对,通过变化色散振荡周期,在波长550-1050nm的范围内提供光滑的群延迟色散(group delay dispersion,GDD);第二种是高色散镜,结合chirped mirrors(CM) 和 G...
 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):18
[摘要]高质量的光学薄膜对膜厚均匀性有较高的要求,镀膜过程中保持蒸发材料表面的平整有利于蒸发云的稳定,从而提高膜厚均匀性。在国产设备电子枪上设计了一个电子束斑蒸发扫描控制器。设计的扫描控制器为保证自动扫描材料...
 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(06):621
[摘要]偏振薄膜的分光特性对膜层厚度非常敏感,本文对一个规整膜系偏振膜的敏感层进行了优化,在不增加总的膜层层数和厚度的情况下增加了偏振膜的带宽;建立了一套膜厚自动控制系统,并对不同的控制方法引起的误差进行了分...
 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(06):624
[摘要]为了研制低损耗、高性能的157 nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157 nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和...
 PDF全文光子学报 | 2010, 39(11):1961-1966
[摘要]为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技术相结合,实现了在现有镀膜机上对193 nm薄膜的膜厚控制。在熔石英基底(JGS1)上,用热舟蒸...
 PDF全文中国激光 | 2010, 37(08):2068-2072
[摘要]膜厚均匀性是评价光学薄膜的重要标准之一。膜厚均匀性不好,膜系特性就会遭到严重破坏。作为用于光学薄膜的主要低折射率材料,SiO2导热性很弱,且以升华的方式进行蒸发,具有特殊的蒸发特性,导致在利用电子束加热蒸发方式...
 PDF全文中国激光 | 2010, 37(08):2051-2056