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   将选定结果: 

 大口径传输反射镜的研究进展

易 葵 马 平 邱 红 王力军 魏朝阳 赵元安 朱美萍

[摘要]针对我国惯性约束聚变装置(ICF)对高性能传输反射镜元件的性能要求, 探索了大口径传输反射镜制备涉及的关键技术与工艺。深入开展了K9玻璃坯片研制、光学冷加工、传输反射镜镀膜和激光预处理等方面的研究工作。提出了4...

 PDF全文光学 精密工程 | 2016, 24(12):2902

 随动压力分布下的非球面抛光去除函数

李徐钰 魏朝阳 徐文东 邵建达

[摘要]考虑去除函数对数控小工具抛光光学元件精度的影响, 提出了如何根据需要加工的非球面参数以及抛光盘参数得到最优去除函数的方法。由于计算非球面上去除函数的核心是准确获得抛光盘与镜面间的动态压力分布, 本文提出利...

 PDF全文光学 精密工程 | 2016, 24(12):3061

 钕玻璃抛光过程中杂质颗粒物对划痕的影响

曹俊 杨明红 魏朝阳 顿爱欢 顾建勋 徐学科 邵建达

[摘要]为了研究不同杂质颗粒物对划痕的影响及其大小与划痕形貌之间的关系,在钕玻璃抛光过程中分别引入三种尺寸的金刚砂、氧化铈团聚物和用过的抛光粉作为杂质颗粒物,对抛光过程中产生的划痕形貌进行统计分析。结果表明,...

 PDF全文中国激光 | 2015, 42(01):0116002

 不同压力模型下边缘去除函数对比分析

吉建伟 魏朝阳 胡晨 张海超 徐学科 邵建达

[摘要]在计算机控制光学表面成形(CCOS)技术中,由于边缘处压力分布的不均匀,会在工件边缘产生边缘效应,边缘效应会严重阻碍面形误差的收敛,边缘效应问题已成为数控加工技术中亟待解决的关键问题之一。针对边缘处压力阶...

 PDF全文中国激光 | 2014, 41(12):1216002

 熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析

杨俊 易葵 魏朝阳 胡国行 崔辉 邵建达

[摘要]利用原子力显微镜观察熔石英不同蚀刻时间的表面形貌,结合二次离子质谱分析,研究了熔石英的再沉积层结构和杂质分布。结果表明,熔石英表面深度10 nm的再沉积层内存在大量微裂纹和杂质,经蚀刻展开形成nm级划痕和坑点...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2014, 26(07):072011

 Ta2O5/SiO2高反膜在1064 nm的单脉冲和多脉冲损伤研究

王营 贺红波 赵元安 单永光 李大伟 魏朝阳

[摘要]本文主要对离子束溅射的Ta2O5 /SiO2 高反膜的多脉冲损伤阈值及其脉冲数目的关系进行的研究。实验发现:缺陷的累积效应在多脉冲损伤中其重要作用。通过一个缺陷累积模型计算得到的结果能够很好的符合多脉冲损伤阈值随...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2011, 9(02):023103

 HfO2/SiO2多层膜中节瘤缺陷破坏的热力分析

单永光 贺洪波 魏朝阳 王营 赵元安

[摘要]制备了用纳米金颗粒为种子生长节瘤的多层膜样品,并对该样品做了激光损伤实验。采用聚焦离子束和场发射扫描电镜对处于临界破坏状态的节瘤缺陷做剖面分析和观察。剖面图显示激光辐照使节瘤缺陷的种子区首先产生了裂纹...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2011, 9(10):103101

 多脉冲激光诱导HfO2/SiO2高反膜中SiO2保护层的累积效应

王营 贺红波 赵元安 单永光 魏朝阳

[摘要]本文研究了在多脉冲激光作用下HfO2 /SiO2高反膜的累积效应。基频高反膜采用电子束蒸发制备。激光损伤测试采用两种方式:1-on-1和S-on-1。测试波长为1064nm,脉宽为12ns。实验发现多脉冲阈值要比单脉冲低。分析认为:...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2011, 9(10):103103

 Ni/C多层膜通过软X射线振荡反射率的结构精细分析

邓淞文 齐鸿基 魏朝阳 易葵 范正修 邵建达

[摘要]X射线小角掠入射反射率曲线是确定多层膜结构的传统方法,但是该曲线对多层膜的界面状态(如组成)并不敏感。虽然软X射线振荡反射率曲线对膜层的结构和成分极为敏感,达到了亚纳米量级,但是在处理曲线时,过多的拟合参...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):170

 不同类型色散镜的设计和分析

王胭脂 邵建达 张伟丽 魏朝阳 黄建斌 晋云霞 易葵 范正修

[摘要]分别设计和讨论了三种不同类型的色散镜。第一种是啁啾镜对,通过变化色散振荡周期,在波长550-1050nm的范围内提供光滑的群延迟色散(group delay dispersion,GDD);第二种是高色散镜,结合chirped mirrors(CM) 和 G...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):18

 电子束蒸发镀膜扫描控制实验研究

王宁 邵建达 易葵 魏朝阳

[摘要]高质量的光学薄膜对膜厚均匀性有较高的要求,镀膜过程中保持蒸发材料表面的平整有利于蒸发云的稳定,从而提高膜厚均匀性。在国产设备电子枪上设计了一个电子束斑蒸发扫描控制器。设计的扫描控制器为保证自动扫描材料...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(06):621

 SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响

王宁 邵建达 易葵 魏朝阳

[摘要]膜厚均匀性是评价光学薄膜的重要标准之一。膜厚均匀性不好,膜系特性就会遭到严重破坏。作为用于光学薄膜的主要低折射率材料,SiO2导热性很弱,且以升华的方式进行蒸发,具有特殊的蒸发特性,导致在利用电子束加热蒸发方式...

 PDF全文中国激光 | 2010, 37(08):2051-2056

 金属介质组合270°反射式宽带相位延迟膜设计

李星 黄建兵 魏朝阳 王胭脂

[摘要]对激光实现由线偏振光转变成圆偏振光的偏振态调制,需要引入90°或270°相位延迟器。设计中选择金属介质组合,光学性能优良的Ag膜作为金属层,利用Gires-Tournois (G-T)腔调节相位,通过优化介质膜堆,在45&...

 PDF全文中国激光 | 2010, 37(12):3133-3139

 电子束自动扫描SiO2材料沉积速率控制实验研究

王宁 魏朝阳 邵建达 范正修 易葵

[摘要]沉积速率是电子束蒸发制备光学薄膜的重要工艺参数之一,影响着成膜的微观结构和化学成分,从而对薄膜的光学性质和机械性质都产生很大的影响。SiO2材料是制备光学薄膜的主要低折射率材料之一,由于其导热性很弱,并且...

 PDF全文中国激光 | 2010, 37(10):2615-2619

 深紫外/紫外氟化物薄膜的光学常数

薛春荣 易葵 魏朝阳 邵建达 范正修

[摘要]研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190nm-...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(05):449

 相干光束的同轴合成

董洪成 李笑 魏朝阳 贺洪波 赵元安 邵建达 范正修

[摘要]基于偏振转换原理,提出了一种相干光束同轴合成技术,多束激光可以同轴耦合为一束激光,具有较高的合成效率和良好的光束质量。提出了一种基于主振荡能量放大结构的偏振光术合成系统,分析了单元合成效率和系统合成效率。...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2009, 7(11):1012

 高功率激光系统中光学薄膜的现状及发展趋势

范正修 魏朝阳

[摘要]概括介绍了高功率激光系统光学薄膜的种类及特点,详细阐述了高功率激光薄膜研究进展,并对高功率激光薄膜的研究趋势进行了展望。

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2009, 46(07):14-17

 真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性

薛春荣 易葵 魏朝阳 邵建达 范正修

[摘要]研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料,给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长,测量了这些材料在120~500 nm的透过率,给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法,并用该方法得到了熔石...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2009, 21(02):287-290

 吸收杂质热辐射诱导光学薄膜破坏的热力机制

魏朝阳 贺洪波 邵建达 范正修

[摘要]光学元件的破坏是限制高功率激光系统发展的主要问题,理解光学元件的破坏机制对于高功率激光系统的设计、运行参量选择以及器件技术发展有重要影响。以热辐射模型为基础研究了杂质吸收诱导光学薄膜破坏的热力过程。研究...

 PDF全文光学学报 | 2008, 28(04):809-812

 光学薄膜元件的激光预处理技术

魏朝阳 赵元安 贺洪波 邵建达 范正修

[摘要]激光预处理技术作为一种提高激光约束核聚变装置中光学元件损伤阈值的有效方法,有重要的使用价值和学术价值。介绍了激光预处理的研究现状,重点介绍了小光斑光栅扫描预处理的方法及其应用,以及应注意的问题。讨论了...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2005, 42(05):51-55

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