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 高数值孔径自由曲面极紫外光刻物镜光学设计

毛姗姗 李艳秋 刘 克 刘丽辉 郑 猛 闫 旭

[摘要]高分辨率需求牵引极紫外光刻(EUVL)投影物镜向高数值孔径(NA)、自由曲面设计形式发展。传统的非球面EUVL物镜设计难以在高数值孔径下兼顾校正像差的需求, 往往造成遮拦, 破坏成像对比度。提出了一种高NA无遮拦自由曲面...

 PDF全文红外与激光工程 | 2019, 48(08):0814002

 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究

李艳秋 刘岩 刘丽辉

[摘要]16 nm极紫外光刻(EUVL)物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给EUVL系统热管理提供可靠的技术依据, 对数值孔径为0.33且满足16 nm技术节点的典型EUVL物镜进行热变形仿真研究。采用有限元软件ANSYS仿真曝光...

 PDF全文光学学报 | 2019, 39(01):0122001

 13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源

赵永蓬 徐强 李琦 王骐

[摘要]搭建了极紫外光源实验装置,获得了中心波长为13.5 nm的Xe等离子体极紫外的辐射光谱。测量了极紫外辐射的时间特性,用多次箍缩理论解释了光脉冲的多峰结构。获得了主脉冲电流幅值、Xe气流量、陶瓷管内径、等离子体长度...

 PDF全文中国激光 | 2018, 45(11):1100001

 基于机器学习校正的极紫外光刻含缺陷掩模仿真方法

张恒 李思坤 王向朝 成维

[摘要]提出了一种基于机器学习参数校正的极紫外光刻三维含缺陷掩模仿真方法。本方法采用随机森林、K近邻等机器学习方法,对基于结构分解法的含缺陷掩模衍射谱快速仿真模型的参数进行动态校正,提高了模型的精度及适应性。以...

 PDF全文光学学报 | 2018, 38(12):1222002

 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法

张恒 李思坤 王向朝

[摘要]对极紫外光刻掩模的吸收层和多层膜分别建模, 将二者组合以实现对具有复杂图形分布的掩模衍射谱的快速精确仿真。对存在图形偏移的吸收层, 采用扩展的边界脉冲修正法进行仿真。对无缺陷及含缺陷的多层膜, 分别采用等效...

 PDF全文光学学报 | 2018, 38(01):0105001

 极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究

陈进新 王宇 谢婉露

[摘要]以清洁气体种类和流量以及污染气体放气率为变量, 进行了单组分清洁气体的动态气体锁(DGL)流场仿真, 并以混合清洁气体的体积比为变量进行了多组分清洁气体DGL流场仿真。仿真结果表明, DGL抑制率随清洁气体流量和分子量...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2017, 54(02):023401

 碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响

王 依 卢启鹏 高云国

[摘要]极紫外光刻系统中的碳污染会降低多层膜反射率,在保证光学元件性能的前提下,如何选择碳清洗工艺是一项重要课题。通过对不同清洗工艺的原理分析,揭示了不同工艺对多层膜反射率的影响主要体现在膜层氧化、刻蚀及表面...

 PDF全文中国激光 | 2017, 44(03):0303004

 组合倍率极紫外光刻物镜梯度膜设计

沈诗欢 李艳秋 姜家华 刘 岩 刘 克 刘丽辉

[摘要]10 nm以下光刻技术牵引极紫外(EUV)光刻物镜向超高数值孔径(NA)、组合倍率设计形式发展, 物镜系统的入射角和入射角范围因此急剧增大, 传统规整膜和横向梯度膜难以满足该类物镜系统反射率及像质要求。为此, 提出了横纵...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(08):0822002

 基于变量分离分解法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法

张 恒 李思坤 王向朝

[摘要]提出了一种基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模衍射谱快速仿真方法, 在保证一定仿真精度的前提下提高了仿真速度。该方法将三维掩模分解为2个相互垂直的二维掩模, 对2个二维掩模采用严格电磁场方法进行衍射谱仿真并将...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(05):0505001

 极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究

陈进新 王 宇 谢婉露

[摘要]开展了动态气体锁抑制率的实验研究,设计了一套极紫外真空动态气体锁实验验证系统;进行了真空抽气系统的详细设计,形成了具有实际可操作性的真空系统的最终布局;指出了该实验验证系统的验证方法;进行了动态气体锁...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(02):0222002

 极紫外光刻机多层膜反射镜表面碳污染的清洗

宋源 卢启鹏 龚学鹏 王依 彭忠琦

[摘要]针对极紫外(EUV)光刻机工作过程中,多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究,讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法。首先描述了在EUV曝光过程中多层膜表面的碳污染形成过程,简单阐述了碳污染对多...

 PDF全文光学 精密工程 | 2017, 25(11):2835

 极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究

陈进新 王宇 谢婉露

[摘要]从理论上系统性地研究了动态气体锁抑制率,提出了动态气体锁理论分析模型。通过理论分析推导出单组分和多组分清洁气体在等截面或者变截面条件下的动态气体锁抑制率解析表达式,并对单组分清洁气体在等截面和变截面条...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2016, 53(05):053401

 极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si 多层膜设计与制备

喻波 李春 金春水 王春忠

[摘要]针对极紫外光刻照明系统中一块小尺寸反射镜大入射角带宽的需求,采用Si层有效厚度与公转速度关系式和多层膜周期厚度与公转速度关系式,完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作。在磁控溅射镀膜机上制备了一系列不同...

 PDF全文中国激光 | 2016, 43(04):0407001

 Gd靶激光等离子体光源离带辐射及其等离子体演化的研究

宋晓林 宋晓伟 窦银萍 田 勇 谢 卓 高 勋 林景全

[摘要]利用脉冲宽度为10 ns, 输出波长为1 064 nm的Nd∶YAG激光器作用金属Gd以及纳米粒子掺杂的低密度Gd玻璃等两种形式靶所产生等离子体光源的离带辐射进行了研究, 发现等离子体所发出的连续辐射是离带辐射的主要成分, 光谱...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2016, 36(10):3114

 基于Ptychography的极紫外光刻投影物镜波像差检测技术

方伟 唐锋 王向朝 朱鹏辉 李杰 孟泽江 张恒

[摘要]Ptychography是一种基于扫描式相干衍射成像的相位恢复技术,实验装置简单,抗干扰能力强。将Ptychography技术用于投影物镜波像差的检测,并分析了检测不同数值孔径投影物镜波像差所采用的光场传播公式、离散化条件及...

 PDF全文光学学报 | 2016, 36(10):1012002

 超大数值孔径极紫外光刻物镜的公差分析

孙圆圆 李艳秋 曹振

[摘要]超大数值孔径极紫外光刻物镜(NA>0.45)能够满足11 nm 光刻技术节点的需求,而高分辨率成像对物镜系统的公差要求非常严格。针对一套数值孔径为0.50 的极紫外投影物镜进行了补偿器选择和制造公差分析。通过对系统敏感...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2015, 52(12):122207

 极紫外光刻含缺陷掩模仿真模型及缺陷的补偿

刘晓雷 王向朝 李思坤

[摘要]建立了一个基于单平面近似的极紫外(EUV)光刻三维含缺陷掩模的快速仿真模型。该仿真模型中,采用相位突变和振幅衰减表示缺陷对多层膜的反射系数的影响,吸收层模型采用薄掩模修正模型。以22 nm 三维接触孔图形为例,周...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(08):0822006

 基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型

刘晓雷 李思坤 王向朝

[摘要]建立了一个基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型。通过等效膜层法求解含缺陷多层膜无缺陷区域和含缺陷区域不同位置的反射系数,准确快速地仿真含缺陷多层膜的衍射谱。与波导法严格仿真相比,200 nm 尺...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(06):0622005

 高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统设计

梁欣丽 李艳秋 梅秋丽

[摘要]针对极紫外光刻照明系统光能利用率低的问题,设计了一套高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统。该系统中波纹板面形采用柱面镜阵列,降低了加工难度;并且根据波纹板反射光线的特性,确定了由修正型复合抛物面聚光镜...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(03):0322005

 极紫外光刻物镜补偿器的选择及定位精度分析

曹振 李艳秋 孙圆圆

[摘要]极紫外(EUV)光刻物镜设计不仅要在系统优化阶段尽可能减小残余像差,还必须选择像质补偿器合理分配各项公差,从而在保证系统可制造性的前提下实现预期性能。针对一套数值孔径0.33 的极紫外光刻物镜,进行了补偿器的优...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(12):1211003

 极紫外光刻物镜分组可视化界面设计优化

王君 王丽萍 金春水 苗亮 谢耀

[摘要]高数值孔径(NA)、大视场极紫外光刻物镜光学系统是实现22 nm及以下技术节点产业化光刻系统的关键部件。通过对光刻物镜系统结构的分析,利用可视化对其初始结构进行分组构造。并在此基础上采用一种渐近式NA 方法获得了...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(12):1211001

 极紫外光学器件辐照污染检测技术

王珣 金春水 匡尚奇 喻波

[摘要]总结并讨论了极紫外光刻技术中,有关极紫外光学器件受辐照污染的"在线"检测方法。简要介绍了极紫外光刻系统的原理、反射镜膜层结构以及表面污染产生的机理; 指出光刻系统中"在线"检测的技术要求...

 PDF全文中国光学 | 2014, 7(01):79-88

 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型

刘晓雷 李思坤 王向朝

[摘要]建立了一个极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型,采用相位突变和反射系数振幅衰减表示缺陷对多层膜反射光的影响,得到了含缺陷多层膜衍射谱的解析表达式。简化模型中,相位突变量由多层膜表面以下第6层膜的缺陷...

 PDF全文光学学报 | 2014, 34(09):0905002

 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用

王君 金春水 王丽萍 郭本银 喻波

[摘要]极紫外光刻投影系统中高反膜厚度一般约300 nm,远大于13.5 nm的工作波长,光能并不能完全穿透膜层入射到基底,从而引入数倍于波长的额外光程差,降低系统成像质量。从能量调制的角度提出了一种基于能量守恒定律的多层...

 PDF全文光学学报 | 2014, 34(08):0811002

 极紫外光辐照下表面碳沉积污染的计算模型

王珣 金春水 匡尚奇 喻波 金方圆

[摘要]极紫外光刻(EUVL)是最有可能实现22 nm技术节点的下一代光刻技术。极紫外(EUV)光刻系统使用波长为13.5 nm,在此波段下曝光设备只能采用全反射式系统。然而,在极紫外光辐照下的光学元件,薄膜表层的碳化和氧化是导致E...

 PDF全文光学学报 | 2014, 34(05):0531001

 光纤点衍射干涉仪中球面参考源偏振控制系统的设计

代晓珂 金春水 王丽萍 于杰

[摘要]极紫外光刻光学检测通常使用光纤点衍射干涉仪,光纤衍射的圆偏振态光束可以提高干涉条纹的对比度、减小衍射球面波的像散,对于提高检测精度有十分重大意义。用穆勒矩阵分析了相位控制型偏振控制器的工作原理,得到只...

 PDF全文光学学报 | 2014, 34(11):1112001

 应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展

秦娟娟 董伟伟 周曙 游利兵 方晓东

[摘要]极紫外光刻是采用波长为13.5 nm的极紫外光作为光源,实现半导体集成电路工艺22 nm以及更 窄线宽节点的主要候选光刻技术。性能优越稳定的多层膜技术是构建整个极紫外光刻系统的重要技术之一。 从高反射率、波长匹配、控...

 PDF全文量子电子学报 | 2014, 31(01):1-11

 激光等离子体极紫外光刻光源

窦银萍 孙长凯 林景全

[摘要]研究并讨论了下一代光刻的核心技术之一-激光等离子体极紫外光刻光源。简要介绍了欧美和日本等国极紫外光刻技术的发展概况,分析了新兴的下一代13.5 nm极紫外光刻光源的现状,特别讨论了国内外激光等离子体极紫外光刻...

 PDF全文中国光学 | 2013, 6(01):20-33

 极紫外光学表面污染控制技术的研究进展

雷敏 李小平 苗怀坤

[摘要]极紫外(EUV)光刻机中光学元件的污染和采用的污染控制策略是影响光刻机性能的重要因素,其中污染主要包括光学表面碳沉积和光学表面氧化,污染控制技术包括智能气体混合技术、保护层技术和污染物清洁技术。着重论述了上...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2013, 50(03):030005

 16~22 nm极紫外光刻物镜工程化设计

曹振 李艳秋 刘菲

[摘要]极紫外光刻是16~22 nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26 mm...

 PDF全文光学学报 | 2013, 33(09):0922005

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