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 退火温度对铝掺杂氧化锌薄膜晶体质量及光电性能的影响

郭德双 陈子男 王登魁 唐吉龙 方铉 房丹 林逢源 王新伟 魏志鹏

[摘要]研究了退火温度对原子层沉积(ALD)生长的铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜光电性能的影响, 结果发现:AZO薄膜在600 ℃退火后, X射线衍射峰的半峰全宽从未退火时的0.609°减小到0.454°, 晶体质量得到提升; 600 ℃退火后...

 PDF全文中国激光 | 2019, 46(04):0403002

 脉冲激光沉积法制备低阻掺镓氧化锌薄膜及其光电性能

莫观孔 刘家辉 邹卓良 唐子媚 刘宇伦 何欢 符跃春 沈晓明

[摘要]采用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上沉积掺镓氧化锌(GZO)透明导电薄膜,使用X射线衍射仪、紫外可见分光光度仪、原子力电子显微镜和霍尔测试系统,研究了氧气分压对GZO薄膜晶体结构、微观形貌以及光电性能的影响。结果表明:...

 PDF全文中国激光 | 2019, 46(10):1003001

 基于岛状多晶氧化锌薄膜的电泵浦紫外随机激光

刘春阳 鞠 莹 王 帅 母一宁

[摘要]光电子集成是当前光电技术和信息工程领域的新趋势和研究热点, 其中光源集成化和工艺相容性已成为制约其进一步发展和应用的关键问题。报道了一种设计简单的、可直接集成在硅衬底上面的激子型激光二极管器件和工艺。基...

 PDF全文红外与激光工程 | 2018, 47(12):1220002

 玉米蛋白质基底上射频磁控溅射法制备ZnO薄膜

杨 帆 王 超 周 路 初学峰 闫兴振 王 欢 郭 亮 高晓红 迟耀丹 杨小天

[摘要]采用射频磁控溅射方法在蛋白质基底上成功地制备了ZnO薄膜, 研究了不同靶基距、氩氧比和溅射功率条件对ZnO薄膜性质的影响。结果表明, 较小的靶基距有助于ZnO薄膜的c轴择优取向生长。我们还发现, 沉积于玉米蛋白质基底...

 PDF全文发光学报 | 2018, 39(10):1431

 氧化锌薄膜的准分子激光退火热效应模拟分析

邵景珍 王 玺 胡红涛 方晓东

[摘要]基于热传导方程建立了ZnO薄膜的准分子激光辐照理论模型,模拟分析了KrF准分子激光辐照ZnO薄膜的热效应。计算了薄膜的温度场分布和热流分布,讨论了激光作用过程中的温度随时间的变化关系,分析了激光能量密度对薄膜温...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2017, 54(06):061401

 室温下溅射法制备高迁移率氧化锌薄膜晶体管

刘玉荣 黄荷 刘杰

[摘要]为降低氧化锌薄膜晶体管(ZnO TFT)的工作电压, 提高迁移率, 采用磁控溅射法在氧化铟锡(ITO)导电玻璃基底上室温下依次沉积NbLaO栅介质层和ZnO半导体有源层, 制备出ZnO TFT, 对器件的电特性进行了表征。该ZnO TFT呈现出...

 PDF全文发光学报 | 2017, 38(07):917

 氧化锌薄膜晶体管电性能的温度特性

王 聪 刘玉荣

[摘要]采用射频磁控溅射法成功制备了ZnO 薄膜晶体管(ZnO-TFT),研究了ZnO-TFT 电学性能的温度依赖性及其影响机理。从室温27 ℃到210 ℃的变化范围,随着器件温度的升高,ZnO-TFT 的开关电流比和阈值电压都有明显的减小,亚...

 PDF全文光电工程 | 2016, 43(02):50

 钼掺杂氧化锌薄膜的结构、 光学和表面等离子体特性研究

王咸海 赵雪薇 洪瑞金 陶春先 张大伟

[摘要]室温下, 通过直流磁控反应溅射在石英衬底上制备一系列钼掺杂氧化锌薄膜。 分别采用X射线衍射(XRD)、 原子力显微镜(AFM)、 分光光度计及拉曼光谱仪研究了钼掺杂浓度对氧化锌薄膜结构、 表面形貌、 光学性能和表面等离...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2016, 36(07):2022

 铬掺杂氧化锌薄膜的超声喷雾法制备及其光学与磁学性质

陈 翔 杨文宇 张慧钦 邹明忠 庄 彬 林应斌 黄志高

[摘要]用注射超声喷雾法将前驱体由针管直接送入超声喷头内, 在石英基板上制备Zn1-xCrxO(x=0.0, 0.01, 0.03, 0.05)薄膜。 采用X射线衍射仪、 扫描电子显微镜、 荧光光谱仪、 紫外-可见分光光度计、 振动样品磁强计(VSM)...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2016, 36(05):1328

 氧化锌薄膜的缺陷发光和它作为白光光源的潜在应用

刘 石 陈永健 崔海宁 孙胜男 王子涵 王海水

[摘要]ZnO发光二极管(LEDs)在照明应用方面有着巨大的潜力。 需要解决的主要问题是光的产生和对辐射的控制, 这个问题来自LED波长的变化和组合。 发现缺陷发光的ZnO有着各种波长范围, 适合LED在白光产生方面的应用。 同时展...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2016, 36(05):1604

 原子层沉积制备氧化锌纳米薄膜的光学性质研究

张春梅 王东栋 方明 张翱 汪筱雨 陈强 孟涛

[摘要]采用原子层沉积技术(ALD), 以二乙基锌和水为前驱体, 在衬底温度分别为110和190 ℃的条件下制备了致密的氧化锌纳米薄膜。 采用X射线光电子能谱, 荧光光谱和椭偏仪等表征手段对薄膜的成分和光学性质进行了研究。 结果表...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2016, 36(01):27

 双有源层结构掺硅氧化锌薄膜晶体管的电特性

莫淑芬 刘玉荣 刘远

[摘要]为降低氧化锌薄膜晶体管(ZnO-TFT)的关态电流(Ioff),提高开关电流比(Ion/Ioff),采用磁控溅射法制备掺硅氧化锌薄膜晶体管(SZO-TFT)和SZO/ZnO双层有源层结构的TFT器件,研究了Si含量对SZO薄膜透光性和SZO-TFT电性能的影响...

 PDF全文发光学报 | 2015, 36(02):213

 磁控溅射法制备钴掺杂氧化锌薄膜室温磁学性质

吴兆丰 程鲲 张峰

[摘要]钴掺杂氧化锌是室温稀磁半导体的重要候选材料,其磁学特性和钴掺杂浓度、显微结构及光学性质密切相关。磁控溅射具有成本低、易于大面积沉积高质量薄膜等特点,是广受关注的稀磁半导体薄膜制备方法。利用磁控溅射方法制...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2015, 27(02):024112

 氧化锌薄膜的光学相干层析检测方法研究

秦玉伟

[摘要]为了实现对氧化锌薄膜的厚度测量, 采用光学相干层析成像的方法进行了理论分析和实验验证, 获得了含厚度信息的1维深度图像和含内部结构信息的2维层析图像。结果表明, 该方法测得的薄膜厚度值与理论值一致。该研究说明...

 PDF全文激光技术 | 2014, 38(06):845

 铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究

杨帆 韦敏 邓宏 杨胜辉 刘冲

[摘要]以 ZnO∶Al为底电极, Cu为顶电极, 在同种工艺条件下分别制备了类电容结构的纯ZnO 阻变器件和ZnO∶2%Cu阻变器件, 分析比较了两种器件的典型I-V特性曲线、置位电压(VSet)和复位电压(VReset)的分布范围、器件的耐久性。...

 PDF全文发光学报 | 2014, 35(05):604-607

 退火对PLD方法制备的ZnO薄膜紫外发光特性的影响

王兆阳 王宏伟 徐世峰

[摘要]在很多研究中,退火是提高ZnO薄膜晶体质量和改善其发光性能的有效方法。研究了脉冲激光沉积法(PLD)方法制备的ZnO薄膜退火后的发光特性,发现高温下和低温下生长的ZnO薄膜具有不同的发光特性。高温下生长的样品退火后...

 PDF全文光学学报 | 2014, 34(s2):s231002

 沟道宽度对ZnO-TFT电学性能的影响

苏晶 莫昌文 刘玉荣

[摘要]用射频磁控溅射法生长的ZnO薄膜作为有源层, 制备出了ZnO基薄膜晶体管(ZnO-TFT), 并在空气环境下350 ℃退火1 h, 研究了沟道宽度对ZnO-TFT器件性能的影响。实验结果表明: 阈值电压随着沟道宽度的减小而增加, 这是由于沟...

 PDF全文发光学报 | 2013, 34(08):1046-1050

 ZnO基薄膜晶体管有源层制备技术的研究进展

苏晶 刘玉荣 莫昌文 简平 李晓明

[摘要]氧化锌基薄膜晶体管(ZnO-TFT)器件的性能受到多种因素的影响, 如半导体有源层、栅介质层的质量、栅介质与有源层的界面质量, 其中有源层的质量起到至关重要的作用, 而在影响器件有源层方面, 制备方法是其中一个重要的因...

 PDF全文液晶与显示 | 2013, 28(03):315-322

 金纳米颗粒等离激元对不同形貌氧化锌薄膜发光性能的调控

张杨 李学红 彭成晓

[摘要]采用化学气相沉积法制备了纳米棒状的氧化锌纳米结构薄膜和没有纳米棒的氧化锌薄膜, 通过直流溅射在所制备的有纳米棒和没有纳米棒的氧化锌薄膜上淀积约3 nm厚的金纳米颗粒薄膜, 研究了金纳米颗粒对不同表面形貌氧化锌...

 PDF全文发光学报 | 2012, 33(12):1299-1303

 贫氧靶材直流溅射制备本征氧化锌薄膜及在铜铟镓硒太阳电池中的应用

杨重寅 万冬云 汪宙 黄富强

[摘要]本文创新性地通过改进的双坩埚方法制备了贫氧靶材,采用直流溅射的方法取代传统的射频溅射制备了本征氧化锌薄膜。该直流溅射方法所得到同等厚度的薄膜样品具有比广泛使用的射频溅射所得的薄膜更高的载流子迁移率,可...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2011, 9(10):103102

 溅射功率对镓掺杂氧化锌薄膜光电性能的影响

刘辉 李竹影 刘冶 张旺洲

[摘要]本文利用射频磁控溅射的方法首次制备了厚度小于 200 nm的低电阻率高透过率的镓掺杂 ZnO(GZO)薄膜。研究了溅射功率的改变对 GZO薄膜光电性能的影响。利用扫描电镜对薄膜的微观结构进行了观察, 利用四探针测试仪、紫外...

 PDF全文光电工程 | 2011, 38(12):99-103

 基底温度对直流磁控溅射制备掺铝氧化锌薄膜性能的影响

杨昌虎 马忠权 袁剑辉

[摘要]采用直流磁控溅射工艺,使用掺铝氧化锌(AZO)陶瓷靶,在玻璃基底上制备出具有c轴择优取向的AZO透明导电薄膜。运用共焦显微拉曼光谱仪对AZO陶瓷靶的微结构进行了表征,对在不同基底温度下沉积出来的薄膜运用扫描电子显...

 PDF全文光学学报 | 2011, 31(05):0531001

 溶胶凝胶法制备钼掺杂氧化锌薄膜及性质研究

邵景珍 董伟伟 陶汝华 邓赞红 周曙 方晓东

[摘要]利用溶胶凝胶法在Al2 O3 衬底上制备出了c轴择优取向的钼掺杂氧化锌(MZO)透明导电薄膜,研究了钼的掺杂量(0~1 at%)对钼掺杂氧化锌薄膜光电性能 的影响。研究结果表明:所制备的薄膜为六方纤锌矿型结构且表面平整、致密...

 PDF全文量子电子学报 | 2011, 28(02):247-252

 不同衬底温度下PLD法制备的氧化锌薄膜的特性

苏雪琼 王丽 陈江博 孔乐 刘红梅 张新平

[摘要]利用GCR-170型脉冲激光器 Nd:YAG的三次谐波(355 nm),以蓝宝石Al2O3 (0001)为衬底,在不同温度下采用脉冲激光沉积法制备了ZnO薄膜.通过原子力显微镜、Raman谱、光致发光谱、红外透射谱、霍尔效应和表面粗糙度分析仪...

 PDF全文光子学报 | 2010, 39(02):296-300

 氧氩比对钴掺杂氧化锌薄膜光电性能的影响

袁明 李宏建 李雪勇 徐仁伯 周子游 王继飞

[摘要]以氧化锌陶瓷靶和金属钴靶为靶材, 利用磁控共溅射方法制备钴掺杂氧化锌(Co-ZnO)薄膜。研究了氧氩比对薄膜的结构、光学和电学性能的影响。结果表明:薄膜具有类似于ZnO的六方纤锌矿结构, 并沿c轴择优生长; 当氧氩比为...

 PDF全文发光学报 | 2010, 31(04):498-502

 氮气氛中高温退火对ZnO薄膜发光性质的影响

钟泽 孙利杰 徐小秋 陈小庆 邬小鹏 傅竹西

[摘要]以二乙基锌和水汽分别作为锌源和氧源,用LP-MOCVD方法在p型Si(100)衬底上生长了单一取向的ZnO薄膜。对得到的样品在氮气气氛中进行高温热处理,退火温度分别为900,1 000,1 100 ℃。 利用室温PL谱、XRD、AFM、XPS等方...

 PDF全文发光学报 | 2010, 31(03):359-363

 不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长

赵春雷 杨小天 王超 唐魏 杨佳 高晓红

[摘要]采用金属有机化学气相沉积方法, 在不同氧气分压下, 对硅衬底氧化锌薄膜材料生长做了研究。X射线衍射方法对氧化锌薄膜的结晶质量做了比对测试。测试结果表明薄膜是沿着(002)方向生长。利用光荧光谱测试分析, 对薄膜的...

 PDF全文液晶与显示 | 2010, 25(05):706-708

 铟磷共掺杂p型氧化锌薄膜形成机理和性质

陈足红 姚斌 郑昌佶 杨通 赵婷婷 单崇新 张振中 李炳辉 张吉英 申德振

[摘要]利用射频磁控溅射在石英衬底上生长出铟磷共掺氧化锌薄膜(ZnO∶In,P),所用靶材为掺杂五氧化二磷(P2O5)和氧化铟(In2O3)的氧化锌(ZnO)陶瓷靶,掺杂质量分数分别为1.5%和0.3%,溅射气体为Ar和O2的混合气体。原生ZnO薄膜是...

 PDF全文发光学报 | 2009, 30(01):12-18

 不同衬底上氧化锌薄膜的金属有机化学气相沉积方法生长

王超 杨小天 唐魏 赵春雷 杨佳 高晓红 李香萍 高忠民 杜国同

[摘要]氧化锌薄膜通过金属有机化学气相沉积方法生长在康宁玻璃与α-蓝宝石衬底上,研究了有关薄膜的生长质量与发光特性。通过X光衍射方法测试研究发现,不仅在以α-蓝宝石为衬底的样品中,同时,在以玻璃为衬底的样品中都发现了...

 PDF全文液晶与显示 | 2009, 24(05):666-669

 掺杂氧化锌薄膜的最新进展

刘波 赵小如 冯娴娴 刘凯 赵亮

[摘要]掺杂氧化锌(ZnO)薄膜是一种新型的透明导电氧化物(TCO)材料,因有替代氧化铟锡(ITO)的潜能而成为当今TCO材料中的研究热点,其优异的光学和电学性能使其在平板显示器、太阳能电池等光电器件中具有光明的应用前景。文章对...

 PDF全文液晶与显示 | 2009, 24(04):522-527

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