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 直流磁控溅射生长(002)择优取向AlN薄膜及其光致发光

吕 伟 刘 俊 赵鹏宇 李健亮 李思达 沈龙海

[摘要]采用直流反应磁控溅射法, 在玻璃衬底上生长了沿(002)择优取向的AlN薄膜, 用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对AlN薄膜结构和表面形貌进行表征, 并测量了AlN薄膜在405 nm激光激发下的光致发光(PL)光谱。结果表...

 PDF全文发光学报 | 2019, 40(06):719

 温度对AZO薄膜红外辐射性能的影响

孙可为 金 丹 杨春利

[摘要]随着全球资源的减少和环境的恶化, 节能减排已成为人们关注的焦点, 具有保温隔热功能的低辐射玻璃成为研究的热点。 提高玻璃保温隔热性能最有效的方法就是在其表面涂覆低辐射率层。 原材料丰富、 导电性能好、 可见光...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2019, 39(06):1975

 柔性衬底直流磁控溅射ZnO基高性能透明导电薄膜的制备及性能研究

张 涛 洪瑞金 张大伟 陶春先

[摘要]采用直流磁控溅射法,以柔性PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)为基底,通过参数优化以求在室温下制备高性能ZnO/Ag/ZnO 多层薄膜。实验中,使用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计、四探针电阻测试仪等仪...

 PDF全文光学仪器 | 2018, 40(02):77

 柔性衬底沉积AZO/Ag/AZO透明导电薄膜及其光电性能研究

周丽丹 胡洁 朱刚毅 陈少飞 何依婷 江绍基

[摘要]为了满足透明导电薄膜轻便、可折叠、高分辨率及快速响应的需求,在AZO单层透明导电薄膜研究基础上,尝试在柔性PET衬底上制备AZO/Ag/AZO三层透明导电薄膜。先利用光学薄膜设计软件对膜系进行设计优化,再参照此优化值制备...

 PDF全文光学与光电技术 | 2016, 14(06):82

 氧化热处理对VO2薄膜特性的影响研究

徐凯 路远 凌永顺 乔亚

[摘要]采用直流磁控溅射法,结合氧化法热处理在硅基底上制备VO2薄膜,通过SEM、XRD、XPS、FTIR红外透射率等测试,从多角度分析了氧化热处理对VO2薄膜截面结构、晶相成分、成分价态、红外透射率相变特性的影响。实验分析表明...

 PDF全文红外与激光工程 | 2015, 44(12):3723

 Al/Al2O3复合薄膜的制备及表面等离子体共振性能研究

宋晓 赵雪薇 洪瑞金 陶春先 张大伟

[摘要]为了探究氧化层对金属薄膜表面等离子体共振(SPR)特性的调制作用,实验采用直流磁控溅射技术,通过控制沉积功率和沉积时间制备不同厚度的金属铝基薄膜,而后调控退火时间和温度得到相应的铝/氧化铝(Al/Al2O3)复合薄膜...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(12):1231001

 软X射线Mo/B4C多层膜应力和热稳定性研究

徐德超 王海霞 张众 朱杰 连玉红 王占山

[摘要]为了实现7 nm波段Mo/B4C多层膜反射镜元件的制备,研究了不同退火方式对Mo/B4C多层膜应力和热稳定性的影响.首先,采用直流磁控溅射方法分别基于石英和硅基板制作Mo/B4C多层膜样品,设计周期为3.58 nm、周期数为60,Mo膜层...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2015, 27(06):062001

 热处理时间对氧化钒薄膜相变性能的影响

张鹏 路远 乔亚

[摘要]采用直流磁控溅射的方法在普通玻璃上制备了低价的氧化钒薄膜,在氧气和氩气混合气氛中,对所制备的薄膜进行不同时间的热处理,得到具有相变特性的VO2薄膜。分别利用X射线衍射(XRD)和场发射扫描电镜(SEM)分析了薄膜的...

 PDF全文半导体光电 | 2013, 34(05):804-806

 直流磁控溅射法制备本征ZnO薄膜及光伏应用研究

杨志军 王波 张静全 冯良桓 武莉莉 李卫 黎兵

[摘要]采用直流磁控溅射法制备了ZnO薄膜, 研究了沉积过程中变换氧分压对薄膜光电性能的影响。采用XRD、紫外可见光分光光度计及AFM等方法对薄膜的结构和光电性质进行了表征。结果表明, ZnO薄膜在可见光范围内的透过率可达88...

 PDF全文半导体光电 | 2013, 34(01):74-78

 不同氧气流量对直流磁控溅射TiO2薄膜的影响

樊晓娟 赖珍荃 李睿

[摘要]采用直流反应磁控溅射法, 以高纯Ti为靶材, 高纯O2为反应气体, 制备了TiO2薄膜.研究了氧气流量对薄膜结晶取向、表面形貌和光学性能的影响.研究发现, TiO2薄膜主要呈锐钛矿TiO2(101)择优取向, 当氧气流量较小时, 薄膜中...

 PDF全文光子学报 | 2012, 41(10):1247-1250

 退火对不同基底上氧化钒薄膜电阻的影响

张鹏 路远 乔亚

[摘要]采用直流磁控溅射的方法分别在普通玻璃与硅片上制备了氧化钒薄膜, 在大气及真空氛围下分别对样品采取了退火处理, 测量了退火前后薄膜的电阻, 结合样品的XRD图谱进行了分析。结果表明, 在普通玻璃和硅片上均得到了V2O...

 PDF全文半导体光电 | 2012, 33(06):850-852

 P-ITO膜成膜过程中O2分压对ITO膜质的影响

赵 杨 吴东起(韩) 高雪松

[摘要]文章研究了在实际生产过程中,真空磁控溅射设备下制备ITO膜时,高温成膜过程中环境中的氧气分压对ITO薄膜的光电特性的影响。P-ITO指的是结晶状态的ITO膜,在高温环境下ITO膜成膜工艺,也就是常说的高温成膜工艺,在成...

 PDF全文现代显示 | 2012, 23(04):42-44

 高择优取向Mo薄膜的直流磁控溅射制备及其电学性能

王震东 赖珍荃 范定环 徐鹏

[摘要]使用直流磁控溅射法在玻璃基底上沉积Mo薄膜,采用X射线衍射仪、原子力显微镜和四探针测试系统研究了溅射工艺对Mo薄膜的结构、形貌和电学性能的影响.结果表明:当基片温度为150 ℃时,薄膜获得(211)晶面择优取向生长,...

 PDF全文光子学报 | 2011, 40(09):1342-1345

 直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度

邹文祥 赖珍荃 刘文兴

[摘要]采用直流磁控反应溅射法,在Si(111) 基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显...

 PDF全文光子学报 | 2011, 40(01):9-12

 玻璃基底上氧化铟锡薄膜的光致发光性能

王东生 杜建周 李雪华 许艳艳 李永祥

[摘要]用直流磁控溅射法在190 ℃玻璃基底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,利用荧光分光光度计研究了ITO薄膜的光致发光性能。结果表明,室温下ITO薄膜在波长250 nm光源的激发下,分别在467 nm和751 nm处观察到了发光强度较强的蓝...

 PDF全文中国激光 | 2011, 38(01):0107002

 基底温度对直流磁控溅射制备掺铝氧化锌薄膜性能的影响

杨昌虎 马忠权 袁剑辉

[摘要]采用直流磁控溅射工艺,使用掺铝氧化锌(AZO)陶瓷靶,在玻璃基底上制备出具有c轴择优取向的AZO透明导电薄膜。运用共焦显微拉曼光谱仪对AZO陶瓷靶的微结构进行了表征,对在不同基底温度下沉积出来的薄膜运用扫描电子显...

 PDF全文光学学报 | 2011, 31(05):0531001

 溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响

廖国 何智兵 陈太红 许华 李俊 谌加军 唐永建

[摘要]实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究。利用原子力显微镜观察样品的表面形貌发现随着溅射功率的增加,薄膜...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2011, 23(09):2386-2390

 在19.5 nm处高反在30.4 nm处抑制的双功能薄膜

蒋励 王晓强 谭默言 黄秋实 李浩川 周斯卡 朱京涛 王占山

[摘要]研究了极紫外波段的双功能光学元件。采用周期膜叠加的思想, 运用遗传方法优化设计了在19.5 nm处高反, 在30.4 nm处抑制的双功能多层膜。采用磁控溅射技术制备了多层膜, 利用X射线衍射仪测试了多层膜的结构, 在国家同步...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2011, 23(05):1299-1302

 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜

杨旭 蔡长龙 周顺 刘欢 刘卫国

[摘要]氧化钒薄膜及其在微电子和光电子领域中的应用已成为国际上新颖功能材料研究热点之一。因氧化钒薄膜具有高的电阻温度系数(TCR)值,其阻值随入射辐射引起的温升有非常灵敏的改变,微测辐射热计正是利用了这一特性,因...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):137

 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜

杨旭 蔡长龙 周顺 刘欢

[摘要]讨论了在低温下以高纯金属钒作靶材,用直流磁控溅射的方法制备出了氧化钒薄膜。通过设计正交试验,分析了氩气和氧气的流量比,溅射功率,工作压强,基底温度对氧化钒薄膜沉积速率和电阻温度系数TCR的影响,采用RTP-500型快...

 PDF全文光学技术 | 2010, 36(01):151-154

 磁控溅射工艺对VOx薄膜结构和性能的影响

聂竹华 李合琴 储汉奇 都智 宋泽润

[摘要]以高纯氧和高纯氩为气源,通过改变薄膜的制备工艺,用直流磁控溅射法在玻璃和单晶硅片上制备了VOx 薄膜,并对其进行了退火处理。借助LCR测试仪和X射线衍射仪,对VOx 薄膜的电阻温度系数、晶体结构进行了检测。结果表...

 PDF全文红外 | 2010, 31(09):9-13

 直流磁控溅射法在管道内壁镀TiZrV薄膜

张波 王勇 尉伟 范乐 王建平 张玉方 李为民

[摘要]用氩气作为放电气体,采用直流磁控溅射法,成功地在不锈钢管道内壁获得了TiZrV薄膜。分别利用能量弥散X射线谱和X射线光电子能谱测量薄膜的成分组成,应用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对薄膜进行了测试,并对TiZrV的二...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2010, 22(09):2124-2128

 薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响

张平 王连杰 杨斌 宋淑梅

[摘要]采用直流磁控溅射法,当衬底温度为室温时,在普通玻璃衬底上制备出了低电阻率、高透过率的ZnO∶Al透明导电薄膜。研究了薄膜厚度对薄膜结构以及光电特性影响。当薄膜厚度为930 nm,薄膜的光电特性最好,电阻率为4.65×...

 PDF全文光电子技术 | 2009, 29(04):261-264

 直流磁控溅射法低温制备ZnO:Ti透明导电薄膜及特性研究

刘汉法 张化福 袁玉珍 袁长坤 类成新

[摘要]利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺钛氧化锌(ZnO:Ti)透明导电薄膜。SEM和XRD研究结果表明,ZnO:Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。厚度为437 nm薄膜的电...

 PDF全文液晶与显示 | 2009, 24(06):823-826

 ZnO薄膜紫外探测器的光电性质

王怡 江伟 邢光建 武光明 韩彬

[摘要]采用直流反应磁控溅射的方法制备ZnO薄膜, 用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和紫外-可见光谱仪(UV-Vis)分别表征ZnO薄膜的晶体结构和表面形貌等特征。并用此材料制备Au/ZnO/Au金属-半导体-金属(MSM)结构光电导型ZnO薄...

 PDF全文中国激光 | 2008, 35(s2):284-287

 直流磁控溅射制备a-Si:H膜工艺及其在激光器腔面膜上的应用

刘春玲 么艳平 王春武 王玉霞 薄报学

[摘要]利用直流(DC)磁控溅射方法制备氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜。研究了氢气流量、溅射源功率对膜的沉积速率、氢含量(CH)以及光学性能的影响。通过傅里叶变换红外(FTIR)吸收光谱计算氢含量,其最大原子数分数为11%。用椭偏仪测...

 PDF全文中国激光 | 2008, 35(03):436-439

 基底温度对直流磁控溅射ITO透明导电薄膜性能的影响

曾维强 姚建可 贺洪波 邵建达

[摘要]用直流磁控溅射法制备透明导电锡掺杂氧化铟(ITO)薄膜,靶材为ITO陶瓷靶,组分为m(In2O3):m(SnO2 )=9:1。运用分光光度计、四探针测试仪研究了基底温度对薄膜透过率、电阻率的影响,并用X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行结构分...

 PDF全文中国激光 | 2008, 35(12):2031-2035

 直流磁控溅射Cr-Cr2O3复合金属陶瓷薄膜光学特性研究

卢进军 潘永强

[摘要]采用直流反应磁控溅射技术在不同靶电流条件下制备了Cr-Cr2O3金属陶瓷薄膜,并利用椭偏仪测量了薄膜的光学常数。采用修正的M-G(Maxwell-Gannett)理论对不同靶电流条件下沉积的Cr-Cr2()3金属陶瓷薄膜的光学常数进行...

 PDF全文应用光学 | 2008, 29(05):0665-669

 膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响

林华平 吴卫东 何智兵 许华 李俊 王锋 李盛印 张宝玲 宋萍 江玲 谌家军 唐永建

[摘要]采用直流磁控溅射方法制备膜厚为50, 100, 200, 400, 600 nm的Nb薄膜,对薄膜的沉积速率、表面形貌、晶体结构进行了研究,并对其应力和择优取向进行了详细的分析.原子力显微镜图像显示Nb膜表面光滑、致密,均方根粗糙度达...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2008, 20(03):413-418

 高反射率Mo/B4C多层膜设计及制备

张慧晶 张众 朱京涛 白亮 陈锐 黄秋实 刘丽琴 谭默言 王风丽 王占山 陈玲燕

[摘要]运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2008, 20(01):0067-70

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