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   将选定结果: 

 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究

李艳秋 刘岩 刘丽辉

[摘要]16 nm极紫外光刻(EUVL)物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给EUVL系统热管理提供可靠的技术依据, 对数值孔径为0.33且满足16 nm技术节点的典型EUVL物镜进行热变形仿真研究。采用有限元软件ANSYS仿真曝光...

 PDF全文光学学报 | 2019, 39(01):0122001

 组合倍率极紫外光刻物镜梯度膜设计

沈诗欢 李艳秋 姜家华 刘 岩 刘 克 刘丽辉

[摘要]10 nm以下光刻技术牵引极紫外(EUV)光刻物镜向超高数值孔径(NA)、组合倍率设计形式发展, 物镜系统的入射角和入射角范围因此急剧增大, 传统规整膜和横向梯度膜难以满足该类物镜系统反射率及像质要求。为此, 提出了横纵...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(08):0822002

 高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统设计

梁欣丽 李艳秋 梅秋丽

[摘要]针对极紫外光刻照明系统光能利用率低的问题,设计了一套高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统。该系统中波纹板面形采用柱面镜阵列,降低了加工难度;并且根据波纹板反射光线的特性,确定了由修正型复合抛物面聚光镜...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(03):0322005

 极紫外光刻物镜补偿器的选择及定位精度分析

曹振 李艳秋 孙圆圆

[摘要]极紫外(EUV)光刻物镜设计不仅要在系统优化阶段尽可能减小残余像差,还必须选择像质补偿器合理分配各项公差,从而在保证系统可制造性的前提下实现预期性能。针对一套数值孔径0.33 的极紫外光刻物镜,进行了补偿器的优...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(12):1211003

 16~22 nm极紫外光刻物镜工程化设计

曹振 李艳秋 刘菲

[摘要]极紫外光刻是16~22 nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26 mm...

 PDF全文光学学报 | 2013, 33(09):0922005

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