激光技术, 2017, 41 (3): 367, 网络出版: 2017-05-09   

SOI纳米光波导表面粗糙度的研究进展

Research progress of surface roughness of silicon-on-insulator nano-optical waveguide
张辉 1,2,3桑胜波 1,2菅傲群 1,2段倩倩 1,2张文栋 1,2,*
作者单位
1 太原理工大学 信息工程学院, 太原 030024
2 太原理工大学 新型传感器与智能控制教育部重点实验室-微纳系统研究中心, 太原 030024
3 中北大学 计算机与控制工程学院, 太原 030051
摘要
SOI纳米光波导表面粗糙度会显著增加波导散射损耗, 降低表面粗糙度是其在许多方面应用中亟待解决的关键问题之一。首先介绍了表面粗糙度概念, 总结了表面散射损耗理论方面的研究进展。随后回顾了多种SOI纳米光波导表面粗糙度测量方法, 以及在表面形貌表征中存在的问题。此外, 还对几种波导表面光滑工艺进行介绍, 并结合具体的工作对光波导表面粗糙度各方面研究进展进行了总结。
Abstract
Surface roughness of silicon-on-insulator(SOI) nano-optical waveguide can significantly increase scattering loss. It is one of the problems to be solved urgently in different application fields. Firstly, the concept of surface roughness and the progress of theoretical research of surface scattering loss were introduced. Secondly, various advanced measurement methods of surface roughness of SOI nano-optical waveguide, including the problems existing in the characterization of surface topography, were reviewed. Thirdly, several kinds of surface smoothing processes were also introduced. Finally, some conclusions were presented combined with our study.

张辉, 桑胜波, 菅傲群, 段倩倩, 张文栋. SOI纳米光波导表面粗糙度的研究进展[J]. 激光技术, 2017, 41(3): 367. ZHANG Hui, SANG Shengbo, JIAN Aoqun, DUAN Qianqian, ZHANG Wendong. Research progress of surface roughness of silicon-on-insulator nano-optical waveguide[J]. Laser Technology, 2017, 41(3): 367.

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