激光与光电子学进展, 2018, 55 (6): 061203, 网络出版: 2018-09-11  

多点实时光刻机光源照度均匀度检测系统设计 下载: 1145次

Design of Multi-Point Real-Time Lithography Light Source Uniformity Detection System
作者单位
1 长春理工大学光电测控与光信息传输技术教育部重点实验室, 吉林 长春 130022
2 中国科学院重庆绿色智能技术研究院集成光电中心, 重庆 400714
摘要
提出了一种光刻机照度均匀度多点测量方法,该方法利用紫外增强PIN光电二极管,同时快速测量曝光机照面多点的光强,通过在传统电流-电压放大电路的基础上进行改进,同时使用复合放大的方法,大大提高了曝光机照度均匀度多点测量方法的重复性,使每一测量单点测量重复性控制在0.02 mW/cm 2。利用紫外增强PIN光电二极管光刻机光源进行实验,结果表明,多点测量一致性小于0.1 mW/cm 2,且检测的照度均匀性符合要求。
Abstract
A multi-point measurement method for illuminance uniformity of lithography machines is proposed. The method of using ultraviolet (UV) enhanced PIN photodiode can rapidly measure the light intensity of the exposure machine, and the combination of improvement on the basis of traditional current-voltage amplifying circuit and composite amplification greatly improves the repeatability of exposure machine illuminance uniformity multi-point measurement method, and makes every single point measurement repeatability of measurement below 0.02 mW/cm 2. Experimental results show that with the use of UV enhanced PIN photodiode exposure machine light source, multi-point measurement consistency is less than 0.1 mW/cm 2, and the detection of the illuminance uniformity meets the requirements.

赵可为, 谭艾英, 尹韶云, 蔡文涛, 杨若夫, 陈建军, 佟首峰. 多点实时光刻机光源照度均匀度检测系统设计[J]. 激光与光电子学进展, 2018, 55(6): 061203. Kewei Zhao, Aiying Tan, Shaoyun Yin, Wentao Cai, Ruofu Yang, Jianjun Chen, Shoufeng Tong. Design of Multi-Point Real-Time Lithography Light Source Uniformity Detection System[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2018, 55(6): 061203.

引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!