直播预告|浙江大学匡翠方教授：从超分辨成像到超分辨光刻

编者按：

我们有幸邀请到浙江大学匡翠方教授,于12月13日为大家带来基于光与物质非线性作用下超分辨成像与超分辨直写光刻方面的最新进展.

直播14：00准时开始,大家不要错过哦~

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报告摘要：

传统远场光学显微镜的分辨率主要取决于照明光源的波长,由于衍射极限的存在,照明光源的半波长是分辨率的理论极限.在过去三十年中,超分辨显微技术的发展突破了这一瓶颈.作为超分辨显微技术的主流技术之一,受激辐射损耗（STED）显微技术,近年来取得了长足进步,并已广泛应用于实际研究中.浙江大学研究团队提出了一种基于频域调制的STED技术,可以有选择地抑制背景信号,从而得到超分辨成像（Dual-modulation difference stimulated emission depletion microscopy to suppress the background signal,微信报道）.

激光直写（DLW）光刻是一项具有空间三维加工能力的加工技术,在微纳集成器件制造中发挥着重要作用.目前市面上流行的DLW装置广泛采用单焦点刻写,效率较低.此外,最小特征尺寸受限于光学衍射极限,无法突破至亚百纳米.为了解决这些问题,之江实验室与浙江大学联合开发了一种基于双光子聚合效应的双通道并行激光直写光刻（P³L）系统,该系统突破了光学衍射极限,提高了激光直写"雕刻"的精度和速度,各项性能均优于当前流行的单焦点系统.(Direct laser writing breaking diffraction barrier based on two-focus parallel peripheral-photoinhibition lithography, 微信报道).

本次报告将介绍基于光与物质非线性作用下超分辨成像与超分辨直写光刻的核心技术与相关系统.报告将从光学远场超分辨显微成像技术出发,简要介绍团队近5年在点扫描超分辨显微成像领域取得的进展与成果,并将详细介绍团队在前期点扫描超分辨成像基础上进一步发展起来的高精度、高通量、高稳定激光纳米直写光刻方法、技术与装置.

报告人简介：

匡翠方,浙江大学教授,光电工程所所长,国家杰出基金获得者、浙江省科技创新领军人才.曾主持基金委重大仪器专项基金、浙江省之江实验室重大装置项目,参与科技部973项目、科技部重大仪器研发项目等20余项.以第一/通讯作者发表SCI文章论文150余篇.以第一发明人申请发明专利100多项.获得2019年国家科学技术发明二等奖、2019年度王大珩光学奖——中青年科技人员光学奖、2018年首届中国光学科技奖评选应用成果类一等奖、2020年浙江省科学技术进步奖三等奖.

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