%0 Journal Article %T 太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺 %O High Power Laser and Particle Beams %A 单云冲 %A 阮久福 %A 杨军 %A 邓光晟 %A 吕国强 %J 强激光与粒子束 %@ 1001-4322 %V 26 %N 5 %D 2014 %P 53102-1 %K 双光栅;太赫兹;光刻;超厚胶;深宽比 %X 介绍了制备某太赫兹频率真空辐射光栅的超厚胶光刻工艺,针对工艺中的难点(大厚度和高深宽比)展开了深入分析。实验分析了基片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影等工艺过程对光刻的影响,通过优化工艺参数,解决了胶膜脱落、开裂,不同胶层间的结合,光栅沟槽间的光刻胶残留等问题,成功制备了厚度为700 μm、深宽比为14的侧壁陡直、表面平整的双光栅结构胶膜。 %R 10.11884/hplpb201426.053102 %U http://www.opticsjournal.net/Articles/Abstract?aid=OJ1406030003253z6B9E %W 中国光学期刊网 %1 JIS Version 3.0.0