主要对种子注入单纵模光学参量振荡器的纵模特性进行了理论和实验研究。利用数值模拟方法,对光参量振荡器中的场强方程进行了求解,得出在种子注入情况下,单纵模脉冲光参量振荡器的输出光频率主要由谐振腔纵模频率决定,而注入光频率与腔纵模频率的偏差应小于腔纵模间隔。并利用多纵模的He-Ne激光器作为种子光,成功地获得了单纵模参量光输出。

优化设计了既能实现较小垂直方向远场发散角，又能降低腔面光功率密度的InGaAs/GaAs/AlGaAs应变层量子阱激光器，并计算了该结构激光器实现基横模工作的脊形波导结构参数。利用分子束外延生长了InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器材料并研制出基横模输出功率大于140 mW，激射波长为980 nm的脊形波导应变量子阱激光器，其微分量子效率为0.8 W/A，垂直和平行结平面方向远场发散角分别为28°和6.8°。

发展了用于实现ICF靶面均匀照明的大口径连续型位相元件设计的新方法，并且在工艺上进行了初步试制。等厚干涉图显示达到了预期的大口径、连续的要求。

介绍了储存环上为自由电子激光研究而建造的光学速调管的自发辐射谱的实验测量及数值模拟结果，并讨论了进一步改进自发辐射光谱调制深度以提高自由电子激光增益的途径。

对单个聚焦结构布里渊池后向散射（反射）脉冲时间特性开展实验研究，观测到相位共轭保真度的时域变化，并用两个布里渊池合成得到具有较高对比度的脉冲波形。结果表明：单池反射脉冲波形敏感地依赖于泵浦能量和聚焦参数。反射脉冲前沿被陡化和压缩，脉冲前沿起点时间随泵浦能量提高而提前，变化范围约为１．５ｎｓ。验证实验表明利用多个布里渊池实现脉冲时间整形方案在原理上是可行的。

以5线段拟合法建立了确定湍流大气中激光对数光强起伏频谱的无标度区间的方法。根据无标度区间的标度指数与起伏强度的关系发现：频谱特征在冬季和夏季明显不同，标度指数在大部分情况下与局地均匀各向同性湍流介质中的光传播理论结果存在较大差别。

用数值计算的方法，研究了不同类型波像差及其组合的均方根值(RMS)和β及Strehl比的关系，建立了拟合关系式，并以此分析了Kolmogroff湍流的r0与β的关系。

提出了应用计算全息制作改进的Mexican-hat 子波匹配滤波器，在一个光学4f系统中实现了二维子波变换，给出了简要的理论分析和实验结果，实验结果与计算机模拟完全一致。

提出了采用幅移键控(ASK)调制的波分复用(WDM)系统中光滤波器带宽的优化设计问题。并根据对长距离波分复用系统中影响信噪比的主要因素的分析,计算了优化设计问题，数值计算给出了一些有意义的结果。

简单介绍了广义洗牌网络(GSN)的结构和分类，着重分析缩减级型GSN的平均跳距性能，并提出一种计算平均跳距的算法。

报道了Tm0.03Yb0.18La0.79P5O14玻璃和Tm(0.1)Yb(3)∶ZBLAN玻璃中Tm3+离子1G4能级的直接上转换敏化发光和间接上转换敏化发光并进行了初步的比较研究，发现在间接上转换敏化的情况下，五磷酸盐中Tm3+离子的上转换发光极大地增强，达到与ZBLAN玻璃可比的水平，它有助于促进上转换研究推向实际应用。

报道了有机材料ZnTBP/CA/PhR对激光的反饱和吸收特性。理论分析从该材料特有的五能级结构出发，指出三重态的第一激发态在反饱和吸收过程中的重要作用，并用两束光同时照射样品的实验方法进行了验证。该材料的反饱和吸收效应可在功率不太高的连续光下操作。

利用CO2激光连续脉冲频率的快慢，平均功率的大小，加上辅助空气吹气压力的变化及其之间的交互作用，来探讨氧化铝陶瓷基片钻孔的最佳模式。

报道了对45#钢圆筒刻片开展的CO2激光刻槽工艺研究情况。采取了把工件浸入水中冷却的措施，克服了刻槽余热引起的烧伤现象，研究了圆筒外表面激光斜刻槽的工艺条件，并且给出了槽深度均匀性解剖检测的结果以及激光刻槽槽体的组织和性能分析。

介绍了有源矩阵液晶显示器的主要缺陷形式。在采用冗余技术的基础上，研究了针对不同缺陷形式所应采取的不同的激光修补对策，由于加法激光修补仪价格昂贵，作者在美国Solarex公司工作期间开发出了利用减法激光修补仪进行加法修补的独特工艺

利用5 kW CO2激光器激光熔覆铝合金表面的Ni-Cr-Al涂层，SEM与TEM分析结果表明，在激光熔覆层中存在有非晶组织，非晶组织呈空间扭曲薄片或杉叶状，它们分别存在于熔覆层颗粒间白色网状组织与颗粒中。

在分析自动送粉式激光熔覆过程中熔覆材料颗粒加入方式及其在激光束中的行为的基础上，建立热平衡方程，推导出反映熔覆过程实际情况的参数：熔覆材料颗粒尺寸、在激光束中运动距离、加热温度、激光功率密度之间的相互关系式等。指出在自动送粉式激光熔覆中能够获得最佳熔覆层的必要条件是：熔覆材料颗粒进入激光束后直到其落到基体材料表面之前，必须始终在激光束中。激光束沿着扫描方向必须有足够的宽度是满足上述条件的关键，同时提出其计算方法及公式，并阐明获得最佳熔覆层的工艺参数之间的匹配原则。

介绍了510.6 nm激光对造血细胞的刺激作用，促使颗粒-巨噬细胞集落形成单位(GM-CFUc)增多。从人脐带血中分离制备的有核细胞中，加入集落刺激因子(CSF)后进行体外培养，形成的GM-CFUc为18.6±12.6/104；如果加入的CSF是经激光照射后的细胞制成的，其GM-CFUc为40.5±20.2/104；如果先用激光照射脐带血的有核细胞，在培养时加入的CSF是未经激光照射后的细胞制成的，也有增殖效应，GM-CFUc为36.5±18.5/104；如果脐带血中的有核细胞和制备CSF的细胞都用激光照射，发现GM-CFUc明显增多，其值为57.4±41.2/104，是未经激光处理者的三倍多。