作者单位
摘要
1 中国电子科技集团公司第三十三研究所 电磁防护材料及技术山西省重点实验室, 太原 030006
2 山西大学 化学化工学院, 太原 030006
3 中国科学院山西煤炭化学研究所 煤转化国家重点实验室, 太原 030001
4 中国科学院大学, 北京 100049
5 4. 山西大学 化学化工学院, 太原 030006
在光学超材料研究过程中,其微观结构的控制制备技术至关重要。综述了国内外在光学超材料制备方法方面的大致发展历程。重点介绍了二维光学超材料的制备技术,并分析对比了各种经典制备方法的优缺点。在二维光学超材料制备方法基础上,进一步叙述了三维光学超材料的传统制备和新的研究制备方法。简要介绍了均匀介质光学超材料的介电常数、磁导率、折射率和阻抗等有效电磁参数的提取过程。
光学超材料 实验 有效参数 刻蚀 自组装 optical metamaterials experimental effective parameters lithography self-assembly 
强激光与粒子束
2015, 27(10): 103233

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