作者单位
摘要
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室, 吉林长春130033
为了实现高成像要求,投影光刻物镜在设计时需要考虑膜层偏振效应的影响,并进行相应的分析和评价。首先介绍了基于琼斯矩阵的偏振像差理论,然后以一个数值孔径(NA)为0.75的投影光刻物镜为例,设计了相应膜系,系统分析了膜层引入的偏振像差,并在设计时对膜层引入的离焦项和球差项进行了间隔优化补偿,补偿前后标量波像差和质心畸变分别从68.92 nm 和3.76 nm 改善为1.08 nm 和0.38 nm,偶极照明模式下90 nm 密集线条对比度从0.082 提高为0.876,在此基础上,提出在设计时根据不同表面的入射角分布情况,采用组合膜系,同时控制P光和S光的振幅和相位分离,减小膜系引入的延迟和二次衰减等偏振像差,使得线条对比度提高了1.1%。
光学制造 投影光刻物镜 膜系 偏振像差 对比度 
光学学报
2015, 35(1): 0122003
作者单位
摘要
四川大学 纳米光子技术研究所,成都 610064
为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA=0.3,工作波长λ=442 nm,倍率10×,分辨率R≤1.2 μm,焦深4 μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.
无掩模光刻 反射光调制器件 光刻物镜 光学设计 Maskless lithography DMD Lithography lens Optical designing 
光子学报
2009, 38(1): 120
作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
为了研究波长为255.3 nm的铜蒸气激光倍频光在亚微米光刻中的可行性,设计了带宽为1 nm的1:1折反射式投影光刻物镜和一个带散射板的光管式均匀照明系统,获得了0.6 μm的光刻分辨率。此结果表明,铜激光倍频光可作为亚微米光刻的照明光源。
远紫外光刻 亚微米光刻 光刻物镜 铜激光倍频光 均匀照明系统 
光学学报
1997, 17(1): 117
作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
报道用远紫外准分子激光进行亚微米光刻的实验结果。以波长为248.3 nm的KrF准分子激光为光源,以光管均匀器为主构成照明系统,采用带有平行平板为像差校正板的11折反射式投影光刻物镜,在两种光刻胶上分别获得了0.6 μm和0.5 μm的光刻分辨率。
准分子激光 激光光刻 亚微米光刻 光刻物镜 
光学学报
1996, 16(8): 1169

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