作者单位
摘要
1 重庆光电技术研究所, 重庆 400060
2 重庆城市管理职业学院, 重庆 401331
通过在传统RCA清洗法所用的SC-1液中, 添加表面活性剂四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA), 实验比较了不同清洗方法对颗粒粘污、金属粘污的去除效率;并测试了其对硅片表面粗糙度的影响。用MOS电容结构的击穿电场强度Weibull分布, 评价了不同清洗方法所得氧化层的质量。结果表明, 上述改进能够显著提高对颗粒粘污和金属粘污的去除效果, 同时能省去RCA的SC-2清洗步骤, 具有节省工时、化学试剂消耗量小的优势。
RCA清洗法 湿法化学清洗 四甲基氢氧化铵(TMAH) 乙二胺四乙酸(EDTA) RCA cleaning process wet chemical cleaning tetramethylammonium hydroxide (TMAH) ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) 
半导体光电
2014, 35(3): 468
作者单位
摘要
电子科技大学微电子与固体电子学院, 四川 成都 610054
采用RF溅射制备出Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜,剥离法制备出UFPA器件单元所需的图形化金属电极,TMAH溶液进行体硅腐蚀,并且使用保护胶和独特的夹具保护硅片正面免受腐蚀液的腐蚀。总结了一套制作微桥的简便可行的工艺流程,并最终在厚度为300μm的硅基片上成功的制备了厚度小于3μm的面积为100μm×100μm的微桥单元结构。该微桥单元可以满足制备热释电薄膜单片式UFPA器件的要求。
单片式 非制冷红外焦平面阵列 微桥 剥离技术 monolithic UFPA microbridge lift-offtechnique TMAH TMAH 
红外技术
2010, 32(1): 17
作者单位
摘要
School of Information and Communication Engineering, Tianjin Polytechnic University, Tianjin 300160, CHN
PERL structure silicon LED inverted pyramids TMAH 
半导体光子学与技术
2009, 15(4): 229

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