作者单位
摘要
西南林业大学土木工程学院,昆明 650224
为了合理地设计和利用再生混凝土,在再生混凝土均匀化过程中,综合考虑原生骨料界面处较大的孔隙率、砂浆处的孔洞和微裂缝,以及骨料界面效应,同时结合扭转变形原理、Mori-Tanaka方法、微分法和Christensen三相模型,建立了一套可预测骨料界面效应下含初始缺陷再生混凝土弹性模量的模型。计算结果表明,当再生骨料取代率由0%增加到100%(质量分数)时,再生混凝土的弹性模量会降低24.4%,新水泥砂浆和原生骨料弹性模量的下降会导致再生混凝土的弹性模量出现不同程度的降低,预测模型能较好地预测界面效应下含初始缺陷再生混凝土弹性模量,并实现参数化分析。
初始缺陷 界面效应 再生混凝土 弹性模量 均匀化方法 三相模型 initial defect interface effect recycled aggregate concrete elastic modulus homogenization method three-phase model 
硅酸盐通报
2023, 42(10): 3538
作者单位
摘要
1 1.辽宁大学 轻型产业学院, 沈阳 110036
2 2.沈阳工业大学 材料科学与工程学院, 沈阳 110870
铁电超晶格是由两种或两种以上的铁电材料或非铁电材料在晶胞尺度下交替生长而形成,并具有层状周期性结构的人工薄膜材料。铁电超晶格由于其中存在大量的异质界面, 异常显著的界面效应使其具有优异的铁电、压电、介电和热释电等性能, 甚至表现出其构成材料不具备的新功能特性。铁电超晶格不仅为研究复杂氧化物材料界面电荷和晶格之间的相互作用提供了一个理想的平台, 还将在下一代集成铁电器件中发挥不可或缺的作用。随着制备和表征手段不断进步, 研究人员能够在原子尺度上设计和调控铁电超晶格的微结构和化学成分以提高铁电超晶格的功能特性。铁电极化是铁电薄膜材料最基本的性质, 除了用于信息存储, 还在调节集成铁电器件(如压电器件、光伏器件和电热器件)的能量转换性能方面也发挥着重要作用。因此, 铁电超晶格的铁电极化强度的大小直接决定了由其构成的集成铁电器件的功能特性和实际应用价值。本文首先介绍了铁电超晶格的结构特征、分类以及几种典型的功能特性, 然后结合近期的研究结果重点阐述了影响铁电超晶格极化性能的几种因素, 包括应变效应、静电耦合效应、缺陷效应和周期厚度等, 最后展望了铁电超晶格的未来研究方向, 以期为该领域的研究提供参考。
超晶格 应变效应 静电耦合效应 界面效应 铁电性能 综述 superlattice strain effect electrostatic coupling effect interface effect ferroelectric property review 
无机材料学报
2023, 38(6): 606
作者单位
摘要
浙江大学 现代光学仪器国家重点实验室, 杭州 310027
针对强激光光学元件的应用要求,对光学材料在研磨和抛光过程中形成的亚表面缺陷进行了分析,并借鉴小工具数控抛光和Marangoni界面效应,提出采用数控化学刻蚀技术来实现光学表面面形和微结构形貌的高准确度加工.通过实验对亚表面缺陷的分布位置和特性进行了分析,实验验证了在静止和移动条件下Marangoni界面效应的存在.对材料的定量去除进行了实验,提出了亚表面缺陷的去除方法.
化学刻蚀 Marangoni界面效应 亚表面缺陷 抛光 Chemical etching Marangoni interface effect Subsurface damage Polishing 
光子学报
2009, 38(5): 1226
作者单位
摘要
重庆大学数理学院物理系凝聚态物理研究所,重庆 400044
采用球壳结构和渐变有限深谐振子势阱模型,利用镜像电荷的方法分析了不同介电常数下,界面效应对半导体量子点异质结中类氢杂质电子束缚能级的扰动情况。通过计算考虑到杂质对电子的束缚作用前后的电子的基态能,可以看出对于处在弱受限情况下的量子点,异质结厚度在小于10nm时,界面效应对类氢杂质电子束缚能级的影响明显。当异质结壳层厚度增大的时候,界面效应的影响将逐渐减弱,受扰动的基态能也逐渐减小,最后不同Airy函数零点值所对应的基态能趋向于某一固定值,此时界面效应可以忽略。
光电子学 量子点异质结 界面效应 渐变势阱 镜像电荷法 optoelectronics quantum dot heterostructures interface effect graded potential well image charge method 
量子电子学报
2007, 24(6): 0721
作者单位
摘要
成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041
利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光(刻蚀)方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径.介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的粗糙度进行检测,结果表明,粗糙度基本无变化,刻蚀前后粗糙度分别为0.72 nm和0.71 nm.基于Preston假设,建立了数控化学抛光理论模型,运用WYKO干涉仪观察实验现象可知,化学抛光刻蚀曲线基本上成平底陡峭的去除函数曲线,小磨头抛光是倒置的仿高斯函数曲线.
Marangoni界面效应 数控化学抛光 去除函数 化学刻蚀 Marangoni interface effect Numerically controlled chemical polishing The Removal function Chemical polishing 
强激光与粒子束
2005, 17(4): 555
作者单位
摘要
南开大学现代光学所, 天津 300071
测定了裸的和表面包覆有阴离子表面活性剂的SnO2纳米微粒的红外吸收光谱。发现后者存在着一个随频率升高而增大的红外背景吸收带,其强烈影响材料的各振动模式的红外吸收强度,并对此现象进行了初步解释。
SnO2纳米微粒 界面极化效应 红外吸收光谱 SnO2 nanoparticles interface effect IR absorption spectra 
光学学报
1995, 15(10): 1355

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