激光技术, 2005, 29 (1): 101, 网络出版: 2006-11-14
ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备
摘要
对以K9玻璃为基底,采用ZrO2和SiO2为高低膜料来制备棱镜偏振膜,并进行膜系优化设计.设计指标为:波长540nm处满足Tp＞99%,Ts＜1%.优化结果表明,膜系以H3L(HL)13H3LH为最佳膜系.测试结果表明,此膜系完全满足设计指标,偏振性能优良.探讨了参考波长对偏振膜工作带宽的影响.
Abstract
沈自才, 孔伟金, 宋永香, 汤兆胜, 范正修. ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备[J]. 激光技术, 2005, 29(1): 101. 沈自才, 孔伟金, 宋永香, 汤兆胜, 范正修. [J]. Laser Technology, 2005, 29(1): 101.
PDF全文
