光学仪器, 2005, 27 (5): 56, 网络出版: 2008-08-12   

大视场投影光刻物镜的研究

Research on the large field projection lithograph lens
作者单位
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027
摘要
大视场投影光刻物镜是光学系统中的一种特殊的形式,其设计加工要求高.针对研制的8英寸视场的投影光刻物镜,从光学设计要求出发,分析了影响光学系统成像质量的各种主要误差因素,通过ZEMAX模拟,确定了加工容差,并对其加工和装校过程做了阐述,对研制完成的物镜检验了其曝光分辨力和畸变特性,达到了系统设计的指标要求.
Abstract

高波, 庄华洁, 马涛, 沈亦兵. 大视场投影光刻物镜的研究[J]. 光学仪器, 2005, 27(5): 56. 高波, 庄华洁, 马涛, 沈亦兵. Research on the large field projection lithograph lens[J]. Optical Instruments, 2005, 27(5): 56.

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