强激光与粒子束, 2008, 20 (3): 396, 网络出版: 2008-08-17
沉积温度对热舟蒸发MgF2薄膜性能的影响
Effects of deposition temperature on resistant-boat evaporated MgF2 films
摘要
采用热舟蒸发方法沉积了氟化镁(MgF2)材料的单层膜,沉积温度从200 ℃上升到350 ℃,间隔为50 ℃.测量了样品的透射率和反射率光谱曲线,进行了表面粗糙度的标定,并在此基础上进行了光学损耗及散射损耗的计算.同时对355 nm波长处的激光诱导损伤阈值进行了测量.结果表明:随着沉积温度的升高,光学损耗增加;在短波长范围散射损耗在光学损耗中所占比例很小,光学损耗的增加主要由吸收损耗引起;在355 nm波长处的损伤阈值变化与吸收损耗的变化趋势相关,损伤机制主要是吸收起主导作用.样品的微缺陷密度也是影响损伤阈值的一个重要因素,损伤阈值随缺陷密度的增加而降低.
Abstract
尚淑珍, 赵祖欣, 邵建达. 沉积温度对热舟蒸发MgF2薄膜性能的影响[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(3): 396. 尚淑珍, 赵祖欣, 邵建达. Effects of deposition temperature on resistant-boat evaporated MgF2 films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20(3): 396.
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