1 华东理工大学 机械与动力工程学院 承压系统安全科学教育部重点实验室, 上海 200237
2 华东理工大学 资源与环境工程学院, 上海 200237
采用一种相对简单而又精确的光度法来计算弱吸收基底上弱吸收薄膜的光学常数, 为低损耗紫外薄膜的设计与实现提供了理论基础。采用JGS1型熔融石英基底, 制备了MgF2与LaF3材料的单层膜, 获得了JGS1型熔融石英基底及MgF2与LaF3薄膜的光学常数色散曲线。结果显示：在200 nm左右处, JGS1型熔融石英基底的吸收已经比较明显, 消光系数在10-8量级, 因此, 应考虑基底的弱吸收, 以提高薄膜光学常数的计算精度。
紫外薄膜 光度法 光学常数 MgF2薄膜 LaF3薄膜 ultraviolet film photometric method optical constants MgF2 film LaF3 film
1 华东理工大学,机械与动力工程学院,承压系统安全科学教育部重点实验室,上海,200237
2 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800
采用热舟蒸发方法沉积了氟化镁(MgF2)材料的单层膜,沉积温度从200 ℃上升到350 ℃,间隔为50 ℃.测量了样品的透射率和反射率光谱曲线,进行了表面粗糙度的标定,并在此基础上进行了光学损耗及散射损耗的计算.同时对355 nm波长处的激光诱导损伤阈值进行了测量.结果表明:随着沉积温度的升高,光学损耗增加;在短波长范围散射损耗在光学损耗中所占比例很小,光学损耗的增加主要由吸收损耗引起;在355 nm波长处的损伤阈值变化与吸收损耗的变化趋势相关,损伤机制主要是吸收起主导作用.样品的微缺陷密度也是影响损伤阈值的一个重要因素,损伤阈值随缺陷密度的增加而降低.
光学薄膜 氟化镁 光学损耗 吸收 损伤阈值
1 华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,上海200237
2 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800
对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上.
反射膜 反射率 光学稳定性 193nm
